等離子體活性成分包括離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清洗劑利用這些活性成分的特性對(duì)樣品表面進(jìn)行處理,等離子清洗技術(shù)設(shè)備展覽會(huì)達(dá)到清洗、鍍膜等目的。德國的 PLASMA TECHNOLOGY 等離子清潔器技術(shù)為后續(xù)噴涂塑料、金屬或玻璃提供了最佳先決條件。先進(jìn)的等離子清洗技術(shù)允許在清洗后立即進(jìn)行后續(xù)處理。該應(yīng)用保證了整個(gè)過程的清潔度和低成本。

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如聚丙烯、聚氯乙烯、鐵氟龍烯烴、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂和其他聚合物)可以用等離子體處理。因此,等離子清洗技術(shù)它特別適用于不耐熱和不耐溶劑的材料。此外,您可以選擇性地清潔材料的整體、部分或復(fù)雜結(jié)構(gòu)。 9、清洗去污可同時(shí)進(jìn)行,提高材料本身的表面性能。它對(duì)于許多應(yīng)用非常重要,例如提高表面的潤(rùn)濕性和提高薄膜的附著力。在等離子清洗應(yīng)用越來越廣泛的今天,國內(nèi)外用戶對(duì)等離子清洗技術(shù)的要求也越來越高。好的產(chǎn)品也需要專業(yè)的技術(shù)支持和維護(hù)。

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經(jīng)過等離子清洗后,等離子清洗技術(shù)設(shè)備展覽會(huì)集成IC和基板與膠體溶液的耦合更加緊密,顯著減少了小氣泡的產(chǎn)生,同時(shí)提高了熱管的散熱和光輸出。會(huì)大大增強(qiáng)。由上可知,根據(jù)引線鍵合線的抗拉強(qiáng)度、抗壓強(qiáng)度、潤(rùn)濕性等特性,可以將原材料表層活化,直接去除氧化性物質(zhì)和顆粒狀污染物。在原材料表面。 LED制造的快速發(fā)展與等離子清洗技術(shù)的應(yīng)用密切相關(guān)。。

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n12 + 188.25 n13) kJ/mol (4-5) 在式(4-5)中,n11、n2和n3分別表示以下。 n11為C2烴產(chǎn)物中C2H6的摩爾分?jǐn)?shù),mol/%,n12為C2烴產(chǎn)物中C2H4的摩爾分?jǐn)?shù),mol/%;n13為C2烴產(chǎn)物中C2H2的摩爾分?jǐn)?shù),比率為摩爾/%。

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