等離子體中的活性粒子會(huì)和紡織材料表面產(chǎn)生物理和化學(xué)作用，河南在線式等離子清洗機(jī)批發(fā)物理作用如解吸、濺射、激發(fā)、刻蝕；化學(xué)反應(yīng)例如交聯(lián)、氧化、聚合、接枝等，這里就不展開(kāi)了，接下來(lái)我們就著重介紹下等離子處理設(shè)備在紡織行業(yè)的應(yīng)用背景和部分實(shí)際應(yīng)用：當(dāng)代的紡織品需要長(zhǎng)久穩(wěn)定的色彩牢固度，與此同時(shí)也要降低溶劑的使用，以利于環(huán)境保護(hù)和人體健康。經(jīng)由等離子處理系統(tǒng)進(jìn)行表面處理后的纖維和織物，其潤(rùn)濕性能大幅提升，可以牢固而長(zhǎng)久地附著。
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簡(jiǎn)而言之，河南在線式等離子清洗設(shè)備定制等離子體清洗技能結(jié)合了等離子體物理、等離子體化學(xué)和氣固兩相界面反響，能夠有用鏟除殘留在資料外表的有機(jī)污染物，并確保資料的外表及本體特性不受影響，現(xiàn)在被考慮為傳統(tǒng)濕法清洗的首要代替技能。 更重要的是，等離子體清洗技能不分處理目標(biāo)的基材類型，對(duì)半導(dǎo)體、金屬和大多數(shù)高分子資料均有很好的處理效果，而且能夠完成全體、部分以及雜亂結(jié)構(gòu)的清洗。
金屬：半導(dǎo)體技術(shù)中常見(jiàn)的金屬雜質(zhì)包括鐵、銅、鋁、鉻、鎢、鈦、鈉、鉀和鋰。這些雜質(zhì)的來(lái)源主要包括半導(dǎo)體晶圓加工過(guò)程中的各種容器、管道、化學(xué)試劑和各種金屬污染物。通常使用化學(xué)方法去除這些雜質(zhì)。用各種試劑和化學(xué)品制備的清洗溶液與金屬離子反應(yīng)形成金屬離子絡(luò)合物，河南在線式等離子清洗設(shè)備定制這些絡(luò)合物與晶片表面分離。氧化物：在暴露于氧氣和水的半導(dǎo)體晶片表面上會(huì)形成天然氧化物層。
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1.4 氧化物當(dāng)暴露于含氧和水的環(huán)境中時(shí)，半導(dǎo)體晶片的表面會(huì)形成自然氧化層。這層氧化物不僅會(huì)干擾半導(dǎo)體制造中的許多步驟，而且還含有某些金屬雜質(zhì)，在某些條件下會(huì)轉(zhuǎn)移到晶圓上，形成電缺陷。該氧化膜的去除通常通過(guò)浸泡在稀氫氟酸中來(lái)完成。等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝中的應(yīng)用等離子清洗具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、無(wú)廢物處理、無(wú)環(huán)境污染等優(yōu)點(diǎn)。但是，它不能去除碳或其他非揮發(fā)性金屬或金屬氧化物雜質(zhì)。
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