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由于低溫等離子體對物體表面處理的強度小于高溫等離子體,能夠?qū)崿F(xiàn)對處理物體表面的保護作用,因而應(yīng)用中我們使用的多為低溫等離子體。低溫等離子體中粒子的能量一般約為幾個至十幾電子伏特,大于聚合物材料的結(jié)合鍵能(幾個至十幾電子伏特),完全可以破裂有機大分子的化學(xué)鍵而形成新鍵;但遠(yuǎn)低于高能放射性射線,只涉及材料表面,不影響基體的性能。

低溫等離子表面處理在精密光電領(lǐng)域應(yīng)用1.清除手機攝像模組支架;2.清除濾光片的微粒和有機物;3.印刷電路板PCB的焊盤清洗和軟硬接合板和FPC微孔除膠;4.行業(yè)內(nèi)常見的處理材料還有特氟龍電路板、芯片電阻、電阻式保險絲、手機天線、聲學(xué)器件、通訊線纜、電子塑膠件。

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在使電子加速的機制當(dāng)中,廣東等離子清洗機廠家直銷理想所滿足的條件是電子在和氬原子產(chǎn)生彈性碰撞并改變運動方向的瞬間電場轉(zhuǎn)向,電子速度和能量均會得到增長,如果能夠滿足上述條件,哪怕電場強度很弱,電子也能獲得電離能的能量,在此機制中,電場頻率的理想范圍通常在約幾千MHz。 也有學(xué)者對上述機制有所延伸,認(rèn)為從器壁和陰極發(fā)射的二次電子被離子鞘加速后進入輝光放電區(qū)成為電子的附加來源,屬于二次電子倍增現(xiàn)象。

在正常催化條件下 CH4 到 C2 烴的 CO2 氧化反應(yīng)中,廣東等離子清洗機廠家直銷當(dāng)反應(yīng)溫度為 820 ℃時,甲烷轉(zhuǎn)化率較低,但負(fù)載型 Na2WO4 催化劑的 C2 烴選擇性高達(dá) 94.5%。(4.73 %)。結(jié)論如下。 Na2WO4/Y-Al2O3在等離子等離子體條件下仍具有較高的C2烴選擇性,在30W等離子注入功率下C2烴選擇性為72%。