濕法清洗在工業(yè)中應(yīng)用非常普遍，工藝和設(shè)備都比較成熟，在電子工業(yè)清洗中占據(jù)主流地位，隨著科技發(fā)展和人們環(huán)保意識的增強(qiáng)，濕法清洗所存在的環(huán)境污染、勞動保護(hù)等問題日益顯現(xiàn)，面臨著新型清洗工藝的沖擊。由于存在以上諸多問題，濕法清洗正逐步被新型的清洗方式所替代，在半導(dǎo)體、精密機(jī)械、微電子和電子組裝等行業(yè)，等離子清洗已替代濕法清洗，成為主要的清洗手段。等離子清洗是一種典型的干法清洗，與濕法清洗相比，等離子清洗沒有環(huán)保、勞動保護(hù)等問題，且清洗質(zhì)量高、工藝簡單，因此近年來技術(shù)和工藝發(fā)展快速。等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)特點(diǎn)主要體現(xiàn)在以下八個(gè)方面：
等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)特點(diǎn)主要體現(xiàn)在以下九個(gè)方面：
1.不使用強(qiáng)酸、強(qiáng)堿等溶劑，清洗后不會產(chǎn)生有毒有害的廢水廢氣，是一種高效環(huán)保的清洗方法。因?yàn)楸磺逑醇唤佑|液體，并且清洗過程中受粒子轟擊溫度升高，因此清洗后無需再干燥處理，簡化了工藝。
2. 等離子清洗屬于固氣干式清潔技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體介質(zhì)清洗對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺真空泵，工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉，同時(shí)污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級。濕法清洗后，被清洗件需要大量的去離子水沖洗，然后再徹底烘干。在沖洗和烘干的過程中處理不當(dāng)易造成二次污染，在比較濕熱的環(huán)境中，烘干還易導(dǎo)致無氧銅等零件氧化。等離子清洗則完全不需要后續(xù)工序，由于清洗和冷卻過程都在真空環(huán)境中，不會造成氧化。
3.射頻等離子清洗與激光等直射光線不同，方向性不強(qiáng)，因此它可以深入被清洗件的狹縫和盲孔內(nèi)部完成清洗，如精密零部件表面的空穴、凹槽、狹縫、微孔等表面形狀均能得到比較好的清潔處理，對那些傳統(tǒng)方法很難清洗的部位和零件優(yōu)勢明顯。
4.等離子清洗全過程可以在幾分鐘到幾十分鐘內(nèi)完成，而且可一次清洗很多零件（根據(jù)反應(yīng)室容積和功率而定），效率很高。
5.等離子清洗機(jī)的真空度和流量控制要求不高，不需要昂貴的制造成本，易于推廣和普及，且后期使用時(shí)并不需要購入和儲存有機(jī)溶劑，運(yùn)行成本要遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)的濕法清洗。
6.等離子清洗可以對不同的材料進(jìn)行處理，如金屬、氧化物、高分子材料等，而且清洗的過程中零件溫升不高，適合于不耐熱的材料。對部件（焊接件、多種材料復(fù)合零件）清洗時(shí)，可充入混合氣體，利用不同的清洗機(jī)理一次清洗完成。
7.等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗機(jī)的輝光放電加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。
8.等離子清洗機(jī)也具有其獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)，溫度控制精確、處理均勻、氣體配比精密、高性能的真空系統(tǒng)、人機(jī)操作界面方便快捷等。
9.等離子清洗改性的區(qū)域和程度具有可控性，作用深度距材料表面約幾個(gè)納米到接近100個(gè)納米之間，而材料本體不受影響的同時(shí)，材料表面性能改性效果顯著。
等離子清洗機(jī)因?yàn)槠洳僮骱啽恪⒊杀镜?、綠色、環(huán)保、無污染等優(yōu)點(diǎn)特點(diǎn)，所以應(yīng)用范圍越來越廣，關(guān)于等離子清洗的研究也越來越受到重視。等離子清洗作為一種新型清潔技術(shù)，目前廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、材料科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。24660