CO2 將 CH4 氧化為 C2 烴。在等離子體催化 CO2 氧化從 CH4 到 C2 烴的同時活化中，cob等離子去膠機甲烷的 CH 鍵被認(rèn)為主要通過以下途徑裂解。 1. CH4與高能電子的非彈性碰撞； 2．活性氧對 CH4 的降解； 3.催化分子對 CH4 的吸附會激活 CH 鍵并使其斷裂。二氧化碳的轉(zhuǎn)化路線如下。

1. CO2分子與高能電子的非彈性碰撞； 2.系統(tǒng)中的 CHx 和 H 等活性物質(zhì)會激活 CO2； 3.催化劑吸附 CO2 分子，cob等離子體表面處理設(shè)備這些分子是 C-0 鍵并促進(jìn) CO 鍵 CO 的裂解。并產(chǎn)生一個活躍的O原子。顯然，在等離子體催化的聯(lián)合作用下，路徑 3 對于 CH4 和 CO2 的轉(zhuǎn)化無疑是重要的。等離子體中催化劑的活化主要取決于與高能電子的碰撞。

由于催化劑的特性不同，cob等離子體表面處理設(shè)備催化劑的活性不同，對甲烷和二氧化碳的吸附活化能力也不同。從以上測試結(jié)果可以看出，NiO/Y-Al2O3在同等等離子體下具有較高的吸附、活性甲烷和二氧化碳容量，因此CH和CO2的轉(zhuǎn)化率較高。反之，Co2O3/Y-Al2O3對甲烷的吸附/活化能力較弱，CH4轉(zhuǎn)化率較低，而Zn0/Y-Al2O對二氧化碳的吸附/活化能力較弱，CO2轉(zhuǎn)化率較低。

在等離子體作用下，cob等離子去膠機根據(jù)C2烴的產(chǎn)率，所負(fù)載的過渡金屬氧化物的催化活性順序如下： / Y-Al2O3 & asymp; Mn2O3 / Y-Al2O3> Co2O3 / Y-Al2O3> ZnO / Y-Al2O3 ≈ MoO3 / Y-Al2O3 ≈ Re2O7 / Y-Al2O3CO 根據(jù)收率高低，負(fù)載型過渡金屬氧化物的催化活性排序。

cob等離子去膠機

如下： : NiO / Y-Al2O3> TiO2 / Y-Al2O3> Re2O3 / Y-Al2O3 ≈ Fe2O3 / Y-Al2O3 ≈ Co2O3 / Y-Al2O3> MoO33 / Y-Al2O3 ≈ ZnO / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Na2WO / Y-Al2O3 ≈ Cr2O3 / Y-A12O3。

實驗結(jié)果表明，等離子體等離子體與負(fù)載型過渡金屬氧化物催化劑的相互作用對 C2 和 CO 的形成有不同的影響。 Na2WO4/Y-Al2O3的C2烴收率高（17.8%），NiO/Y-Al2O3的CO收率高（53.4%）。 Re2O7/Y-Al2O3的C2烴收率低（8.8%），Cr2O3/Y-Al2O3的CO收率低（34.5%）。在等離子體催化下，反應(yīng)產(chǎn)物主要由第三體表面的活性物質(zhì)重組形成。

因此，常壓等離子清洗機在噴嘴下方停留時間很短，常壓等離子清洗速度快，不會長時間停留，所以材料表面清洗到位，抑制清洗效果...解決方法是安裝多個噴嘴。較大的生產(chǎn)線通常安裝 10 個或更多噴嘴。這是手機組裝行業(yè)中一種非常常見的設(shè)備，用于檢測等離子清洗的效果。水滴角和用餐筆。在調(diào)整等離子清洗機的參數(shù)時，根據(jù)測量結(jié)果進(jìn)行調(diào)整。等離子清洗時間合適，時間越長，需要的時間越少，對產(chǎn)能的影響越大。

2、環(huán)氧地坪漆拋光機和環(huán)氧地坪漆拋光帶機：配備80-120個有意拋光盤和拋光帶，在涂刷環(huán)氧地坪漆面漆前對砂漿或膩子層進(jìn)行拋光。獲得平坦細(xì)膩的表面。也可用于使用粗（20-40目）拋光盤或拋光帶輕松拋光混凝土和其他基材的表面。環(huán)氧地坪漆檢驗檢測設(shè)備環(huán)氧樹脂地坪漆基材的環(huán)境溫度、濕度和表面溫度，以保證環(huán)氧樹脂地坪漆的涂裝要求。

cob等離子體表面處理設(shè)備

環(huán)氧地坪涂裝檢測/測試設(shè)備 1、環(huán)氧樹脂地坪涂裝基材表面溫度/環(huán)境溫度/濕度計：通過測量環(huán)氧樹脂地坪涂裝環(huán)境的溫度/濕度和環(huán)氧樹脂地坪的外部溫度來進(jìn)行環(huán)氧地坪涂裝涂層基材。符合要求。 2、環(huán)氧樹脂地坪漆基材水分儀：測量基材的水分含量，cob等離子去膠機滿足環(huán)氧地坪涂裝要求。 3.環(huán)氧地坪漆導(dǎo)電靜電電阻測試儀：抗靜電環(huán)氧地坪漆用于測量地板的靜電電阻率。