在處理芯片集成度不斷提高的今天，BGA等離子體刻蝕設(shè)備I/O管腳數(shù)量迅速增加，功耗不斷增加，集成電路封裝難度越來越大。 BGA 封裝現(xiàn)在用于生產(chǎn)以滿足開發(fā)需求。貼片電感也稱為球形針柵陣列封裝工藝，是一種高密度的表面貼裝封裝工藝。封裝底部的引腳為球形，排列成網(wǎng)格狀，稱為 SMD 電感。隨著產(chǎn)品性能要求的不斷提高，等離子表面活性劑逐漸成為BGA封裝工藝中不可或缺的一部分。

2. 等離子設(shè)備及封裝工藝 薄板減薄及RARR；片材切割及RARR；片材接合及RARR；清洗及RARR；鍵合線及RARR；等離子設(shè)備清洗及RARR；液封及灌封及RARR；焊球組裝及RARR；回流焊& RARR；表面標(biāo)記& RARR；剝離& RARR；復(fù)檢& RARR；檢驗(yàn)& RARR；包裝。 BGA 封裝的流行主要是由于其優(yōu)勢（顯然）以及在密度、電氣性能和替代傳統(tǒng)封裝成本方面的獨(dú)特優(yōu)勢。

等離子表面清洗和鍵合線PBGA封裝工藝： 1. PBGA板的制備 當(dāng)在BT樹脂/玻璃芯板上鋪兩層厚度為12-18微米的薄銅箔時(shí)，BGA等離子體刻蝕設(shè)備進(jìn)行鉆孔和金屬化。使用傳統(tǒng)的電路板和 3232 技術(shù)，在電路板的兩側(cè)放置各種形狀的導(dǎo)帶、電極和焊縫。然后添加阻焊層以創(chuàng)建暴露電極和焊盤的圖案。一塊板通常包含各種PBG板，以提高生產(chǎn)效率。

在 CBGA 組裝中，BGA等離子體刻蝕設(shè)備板、芯片和 PCB 板之間的 CTE 差異是導(dǎo)致 CBGA 產(chǎn)品故障的主要原因。為了彌補(bǔ)這種情況，除了CCGA結(jié)構(gòu)外，還可以使用另一種陶瓷基板，即HITCE陶瓷基板。 2. 封裝過程中的Wafer Bump準(zhǔn)備-> 晶圓切割-> 芯片倒裝芯片和回流焊接-> 底部填充導(dǎo)熱油脂，密封焊接分布-> 封蓋-> 焊球組裝-> 回流焊接-> 標(biāo)記-> 分離-> 重新檢查-> 測試-> 包裝。

BGA等離子體清洗儀

使用在線等離子清洗 AR 和 H2 的混合物數(shù)十秒，可以去除銅引線框架上的氧化物和有機(jī)物，改善表面性能，并提高焊接、封裝和鍵合的可靠性?？梢宰龅?。 4、塑料球柵陣列封裝前在線等離子清洗塑料球柵陣列封裝技術(shù)，又稱BGA，是一種球焊點(diǎn)呈陣列分布的封裝形式，適用于越來越多的引腳。導(dǎo)程間隔小。雖然廣泛應(yīng)用于封裝領(lǐng)域，但BGA封裝器件失效的主要原因還是BGA焊接后焊點(diǎn)的質(zhì)量問題。

4、時(shí)間 處理時(shí)間的長短與功率、氣體流量、氣體種類有關(guān)。以PBGA基板的引線鍵合能力的提高，即短時(shí)間等離子處理為例，引線鍵合強(qiáng)度比未處理的僅提高2%，但處理時(shí)間增加1 /3...強(qiáng)度強(qiáng)度比未處理前高 20%。這里需要注意的是，過長的處理時(shí)間并不總能提高材料的表面活性。從提高生產(chǎn)效率的角度來看，加工時(shí)間也應(yīng)盡量減少。這在大規(guī)模生產(chǎn)中尤為重要。

真空環(huán)境、高能（射頻、溫度、氣體處理）和介質(zhì)（腔體、電極、支架）是等離子設(shè)備的三個(gè)主要條件。因此，等離子設(shè)備的維護(hù)保養(yǎng)應(yīng)從上述觀點(diǎn)入手。根據(jù)維護(hù)項(xiàng)目的不同，周期可分為每天、每周、每月、半年、一年和二至三年。目前，采用等離子脫膠工藝代替?zhèn)鹘y(tǒng)的化學(xué)溶劑脫膠和高溫氧脫膠已取得顯著成效。

這種等離子體在體外醫(yī)療設(shè)備中的應(yīng)用示例包括用于實(shí)驗(yàn)或藥物（物質(zhì)）生產(chǎn)的培養(yǎng)皿的清潔和改性，以及微孔板的表面改性。這種表面改性還可以提高人體植入物的生物相容性。例如，人造血管、隱形眼鏡和藥物輸送植入物的生物相容性可以通過提高血液相容性涂層與散裝材料的粘附性來提高。對于某些應(yīng)用，如果需要，材料的表面處理，例如接觸掩埋，也可以減少（減少）蛋白質(zhì)或細(xì)胞粘附。異形眼鏡和人工晶狀體材料。

BGA等離子體清洗儀

2、等離子清洗主要以物理反應(yīng)為主。等離子清洗離子用于純物理沖擊，BGA等離子體刻蝕設(shè)備以去除附著在材料表面的原子。這也稱為濺射腐蝕 (SPE)。使用氬氣凈化，氬離子以足夠的能量照亮設(shè)備表面以去除污垢。聚合物中的聚合物化學(xué)鍵被分離成小分子，這些小分子被汽化并從入口真空泵中排出。同時(shí)，經(jīng)過氬等離子清洗后，可以改變材料表面的微觀形貌，使材料在分子范圍內(nèi)粗化，表面活性和結(jié)合性能顯著提高。