等離子體處理設備與燃燒處理相比，煙霧為什么附著力強的原因不損傷試樣，還可以對整個表面進行非常均勻的處理，無有毒煙霧，也可以對試樣進行盲孔和縫隙處理。三、表面刻蝕在等離子體刻蝕中，被刻蝕的材料被襯底的作用汽化(例如，當用氟刻蝕硅時)。機體和基料氣化由真空泵抽出，其表面連續(xù)被新鮮機體覆蓋。

本發(fā)明是根據(jù)低溫等離子刻蝕機凈化的基本原理和機械離心的基本原理設計的。等離子刻蝕機的基本清洗原理是在真骨腔內(nèi)，附著力強的氧化物高頻開關電源在相應的工作壓力下浮動，形成高能混沌等離子體，根據(jù)等離子體對被刻蝕的產(chǎn)品表面進行清洗。 .實現(xiàn)清潔的過渡。等離子體是凝聚態(tài)物理。當高能電子與石油煙霧分子碰撞時，會發(fā)生一系列基本的物理化學作用，伴隨著各種特定的氧自由基和生態(tài)氧，或臭氧分解形成的原子氧，在此過程中形成。行動。

通過改變?nèi)~片的角度和形狀，附著力強的氧化物煙塵分子在葉輪盤和葉片上碰撞并堆積。油煙呈顆粒狀油霧形式，通過離心力拋入箱內(nèi)壁，從泄漏的油管中排出。 2、高（效）過濾消音段：經(jīng)過前端處理后，大部分油煙被去除，大部分逸出的微米級煙霧在高（效）過濾段（粗濾和細濾）處理后被過濾過濾）。將完成。過濾），剩余的亞微米油霧顆粒，以及煙氣中的有毒有害物質(zhì)和異味，進入冷等離子凈化段。本實用新型具有吸音降噪功能，有效控制整個裝置的噪音。

例如，附著力強的氧化物有機污染物可以通過與污染物反應產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水的氧等離子體來有效去除。一般來說，化學反應對消除有機污染物效果更好。 3）氫氣：氫氣可用于去除金屬表面的氧化物。通常與氬氣結(jié)合使用以提高去除率。通常，氫氣的可燃性是一個問題，氫氣的使用量非常少。一個更大的問題是氫的儲存。氫氣發(fā)生器可用于從水中產(chǎn)生氫氣。然后刪除可能有害的。 4）CF4/SF6：氟化氣體廣泛用于半導體行業(yè)和PWB（印刷電路板）行業(yè)。

附著力強的氧化物

撞擊力足以去除表面上的任何污垢。然后這些氣態(tài)污物通過真空泵排出。2)氧氣:化學工藝中等離子體與樣品表面上的化合物反應。例如,有機污染物可以有效地用氧氣等離子去掉,這里氧氣等離子與污染物反應,產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水。一般地說,化學反應清除有機污染物效果更好。3)氫氣:氫氣可供去除金屬表面氧化物使用。 它經(jīng)常與氬氣混合使用,以提高去除速度。一般人們擔心氫氣的易燃性,氫氣的使用量非常少。人們更大的擔心是氫氣的存儲。

下面就讓我們一起來了解下等離子清洗機清洗方式的選擇和不同激發(fā)頻率的差異：等離子清洗機清洗方式的選擇以物理反應為主的等離子清洗，其優(yōu)點在于本身不發(fā)生化學反應，清潔表面不會留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化學純凈性，腐蝕作用各向異性:缺點就是對表面產(chǎn)生了很大的損傷，會產(chǎn)生很大的熱效應，對被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差，腐蝕速度較低。

特別是隨著人們對室內(nèi)空氣質(zhì)量的日益關注，室內(nèi)揮發(fā)性有機化合物含量的增加，VOCs控制技術(shù)的研究已成為世界各國科學家關注的熱點之一。VOCs的控制技術(shù)基本上分為預防措施和控制措施兩大類，目前主要研究的是基于末端治理的控制措施。

其中有電極的等離子體炬主要有兩種，一種工作在轉(zhuǎn)移?。╰ransferred），一種工作在非轉(zhuǎn)移弧(non-transferred)。其區(qū)別在于是否將所要加工的工件作為一個電極，若將加工工件作為一個電極則是工作在轉(zhuǎn)移弧，否則是工作在非轉(zhuǎn)移弧。

煙霧為什么附著力強的原因

完全電離等離子體(=1)和強電離等離子體(1> >0.01)和弱電離等離子體(<0.01)。按粒子密度可分為密集電離子等離子體(粒子密度n為10^5~18cm-3)和薄等離子體(粒子密度n為10^12~ 14cm -3)。按熱力學平衡等離子體的分類可分為完全熱力學平衡等離子體、局部熱力學平衡等離子體和非熱力學平衡等離子體。

高頻高壓等離子體發(fā)生法在感應線圈上施加高頻電場時，煙霧為什么附著力強的原因部分空氣電離產(chǎn)生的帶電粒子高速運動，與氣體原子兩次碰撞形成電離，在垂直于磁場方向的截面上形成封閉的環(huán)形渦流。根據(jù)渦流效應，電流頻率越高，磁通變化率越大，感應電動勢越大，渦流效應越顯著，等離子體束流越穩(wěn)定。由于高頻交流電的渦流效應，等離子體束具有集膚效應。電流頻率越高，穿透深度越小，趨膚效應越明顯，等離子體中帶電粒子越集中。