PTH的一致性不理想，塑膠等離子體表面處理報(bào)廢率較高。因此，在實(shí)際的制造過程中，干式等離子清洗機(jī)得到了廣泛的應(yīng)用。通過SEM掃描電子顯微鏡對等離子清洗機(jī)處理前后的材料進(jìn)行觀察和比較，可以看到等離子清洗機(jī)處理后的材料表面凹面更均勻、凸起，可以增強(qiáng)結(jié)合力。然后測試了鍍銅和錫墨對等離子清洗機(jī)處理PTFE基板的影響。測試結(jié)果如下圖所示。由此可見，等離子體處理技術(shù)提高了材料鍍銅和焊料油墨的效果。。
一般的化學(xué)處理方法比較復(fù)雜，塑膠等離子體蝕刻機(jī)有毒化學(xué)物質(zhì)大量，容易造成環(huán)境污染，對人體也有很大的危害。與傳統(tǒng)的表面處理技術(shù)相比，低溫等離子表面處理器的表面處理技術(shù)具有工藝簡單、操作方便、控制方便、對環(huán)境無污染等優(yōu)點(diǎn)，越來越受到人們的青睞。在這些活性粒子的作用下，材料的表面性能會發(fā)生變化。
鍍鋁基片預(yù)處理的目的:增加鍍鋁層的附著力，塑膠等離子體表面處理增加鍍鋁層的阻隔效果(果)(如堵氣、堵光)，提高鍍鋁層的均勻性。在等離子體預(yù)處理過程中，對基板表面進(jìn)行清洗(如用水)和活化(污化)，即對基板表面進(jìn)行化學(xué)改性，使鋁原子的附著更加牢固。
低溫等離子體清洗機(jī)的表面沉積功能等離子體化學(xué)氣相沉積(CVD)是一種利用等離子體激活活性氣體，塑膠等離子體表面處理促進(jìn)基板表面或近表面的化學(xué)反應(yīng)，從而產(chǎn)生固體薄膜的技術(shù)。等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)的基本原理是在高頻或直流電場作用下，源氣體電離形成等離子體，低溫等離子體作為能量源，通過適量的反應(yīng)氣體，利用等離子體放電活化反應(yīng)氣體，實(shí)現(xiàn)化學(xué)氣相沉積技術(shù)藝術(shù)。
塑膠等離子體蝕刻機(jī)
等離子體發(fā)生器處理過程不會在處理過的裝置表面留下痕跡，也減少了氣泡的形成。。熱等離子體處理危險(xiǎn)廢物技術(shù)的研究進(jìn)展應(yīng)用熱等離子體處理危險(xiǎn)廢物是一項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù)。與傳統(tǒng)焚燒爐相比，真正達(dá)到了無害化、減量化、資源化的目的。介紹了熱等離子體處理危險(xiǎn)廢物的原理、優(yōu)點(diǎn)、等離子體廢物處理系統(tǒng)以及國外利用該技術(shù)處理危險(xiǎn)廢物的研究現(xiàn)狀。喚起人們對這項(xiàng)新技術(shù)的認(rèn)識和關(guān)注。
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塑膠等離子體表面處理
