以下是常壓等離子體清洗機(jī)的技術(shù)參數(shù)參考：輸入電源AC220V，pet電暈對(duì)附著力PE。

例1：O2＋e－→ 2O※ +e－ O※＋有機(jī)物→CO2+H2O從反應(yīng)式可見，pet電暈與印刷附著力氧等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機(jī)物變成易揮發(fā)的H2O和CO2。例2：H2+e-→2H※+e- H※+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬＋H2O從反應(yīng)式可見，氫等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面。物理清洗：表面反應(yīng)以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫濺射腐蝕（SPE）。

無機(jī)基板有高熔點(diǎn)、表面光滑的優(yōu)點(diǎn)，pet電暈對(duì)附著力如玻璃、硅片、石英。雖然表面看起來很粗糙，但是這些數(shù)據(jù)顯示了像聚乙烯萘(PEN)和聚乙烯(PET)這樣的彈性可彎曲材料。plasma等離子處理機(jī)等離子處理的襯底需要在準(zhǔn)備階段對(duì)襯底進(jìn)行處理，以去除襯底表面雜質(zhì)，提高表面活性。2、電極處理-plasma等離子處理機(jī)等離子處理在有機(jī)場效應(yīng)晶體管(OFET)中，電極是另一重要元件。

CO應(yīng)由式(4-6)導(dǎo)出:CO2 有限公司+ 0.5 H2 o2?= 283焦每摩爾(4 - 6)顯然,方程(4 - 5)和(4 - 6)都是吸熱反應(yīng),和他們的能源效率是respectively C2 =[(?H1 x Yc2 F) / P) x(4 - 7)埃塔;公司=[(?H1 x公司Yco F) / P) x (4 - 8), P是等離子體等離子體功率(kJ / s); F是原料氣體的摩爾流量(摩爾/ s); P / F是能量密度(焦每摩爾)。

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等離子清洗系統(tǒng)采用大氣介質(zhì)阻擋放電，放電電壓25.4KV，放電頻率13.8KHZ，N2流量 ML/MIN。氮分子的第二個(gè)正帶 N2 (C3 & PI;) 和模擬氨分子的發(fā)射光譜的第二個(gè)正帶 ll。從結(jié)果圖中，我們可以看到擬合光譜與實(shí)驗(yàn)光譜非常吻合。 SPECAIR在上述實(shí)驗(yàn)條件下直接得到氣體旋轉(zhuǎn)溫度為520K，等離子體溫度也為520K。

PEMFC(PEMFC)又是燃料電池系列中的典型代表，具有起動(dòng)快、使用時(shí)限長、比功率大等優(yōu)點(diǎn)，尤其適合移動(dòng)電源及各種便攜式電源，是電動(dòng)汽車及其它交通工具的理想電源之一。可再生燃料電池和PEMFC的發(fā)展對(duì)新能源技術(shù)的發(fā)展起著舉足輕重的作用。常規(guī)PEMFC技術(shù)主要包括膜電極、雙極板等。

等離子清洗機(jī)（Plasma Cleaner）又被稱為等離子蝕刻機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子活化機(jī)、Plasma清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場合。 等離子體清洗機(jī)是一種有效、低成本的清洗設(shè)備，能有效去除基板表面可能存在的污染物。

好的工具通?？梢杂酶俚馁Y源做更多的事情。他還說：功夫再高，他怕刀。機(jī)器再好，他也得留著。那么我們來分享一些常見的保養(yǎng)項(xiàng)目。 1、定期檢查真空泵油。每月定期檢查真空泵的油位和油純度，并觀察油位窗口。當(dāng)油位接近底部紅線標(biāo)記時(shí)，在油紅線之間及其下方添加。觀察油的顏色。普通油是干凈透明的。如果油混濁（油色呈灰褐色或油位窗模糊），真空泵噪音異常，需要及時(shí)更換真空油。 2. 清潔反應(yīng)室。

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正因?yàn)?a href="/zhenkongdengliziqingxiji.html" target="_blank">真空等離子清洗機(jī)有以上諸多優(yōu)點(diǎn)，pet電暈與印刷附著力價(jià)格相較常壓而言就貴很多了。當(dāng)然并不是因?yàn)樗鼉?yōu)點(diǎn)多而導(dǎo)致價(jià)格高，一個(gè)產(chǎn)品的價(jià)格高，主要還是由它的配置來說的。我們先來看一下真空等離子清洗機(jī)的主要組成部分，這樣就可以大致了解影響其價(jià)格的主要因素了。真空等離子清洗機(jī)主要由真空腔體，等離子發(fā)生器（電源），真空泵，三個(gè)主要的部分組成。

控制單元分為兩大部分:1)電源:主要有三個(gè)電源頻率，pet電暈對(duì)附著力分別是40KHz、13.56mhz和2.45ghz，其中13.56mhz是電源適配器所要求的。2)系統(tǒng)控制單元:分為三種，按鍵控制(半自動(dòng)、全自動(dòng))、計(jì)算機(jī)控制、PLC控制(LCD觸摸屏控制)。真空室真空室主要分為兩種材料:1)不銹鋼真空室。2)石英腔。真空泵分為兩種類型:1)干泵。2)油泵。