等離子體按溫度分類，可以分為高溫等離子體和低溫等離子體兩種；高溫等離子體溫度一般超過8910~10K，處于該狀態(tài)的粒子有足夠的條件相撞，達(dá)到了核聚變的條件，如太陽的核聚變、太陽風(fēng)等都可以產(chǎn)生高溫等離子體。低溫等離子體又可以分為熱等離子體和冷等離子體，熱等離子體溫度在2410~10K之間，它具有統(tǒng)一的熱力學(xué)溫度，即電子與重粒子溫度基本相同，基本達(dá)到熱力學(xué)平衡狀態(tài)；冷等離子體的溫度接近常溫，其中重粒子溫度基本處于常溫下，而電子溫度卻高達(dá)104K以上，不處在熱力學(xué)平衡狀態(tài)。
低溫plasma等離子清洗機(jī)是通過施加高能量電場(chǎng)，破壞氣體原有的平衡狀態(tài)，形成接近環(huán)境溫度的低溫等離子體。一般來說等離子清洗機(jī)的清洗溫度并不高。我們常見的等離子清洗機(jī)分為兩類，一類是真空等離子清洗機(jī)，和大氣常壓等離子清洗機(jī)。下面就介紹一下兩種類型的等離子清洗機(jī)溫度分別是多少。
一般來說真空plasma等離子清洗機(jī)的清洗溫度要低于常壓plasma等離子清洗機(jī)，等離子激發(fā)頻率為13.56MHz的真空等離子清洗機(jī),清洗溫度為50~60℃。清洗溫度會(huì)隨清洗時(shí)間和清洗功率的增加逐漸升高。
激發(fā)頻率為40KHz的真空plasma等離子清洗機(jī)電源功率一般都比較大，溫度一般也比較高，清洗溫度70~100℃。因此一般大型的中頻真空等離子清洗機(jī)真空腔室都配有水冷電極托盤，防止清洗溫度過高對(duì)產(chǎn)品造成損傷。
常壓plasma等離子清洗機(jī)的正常清洗溫度一般在70-80℃，常壓等離子清洗機(jī)的清洗溫度，跟清洗噴頭的移動(dòng)速度有很大關(guān)系，如果處理速度快，產(chǎn)品表面的溫度就很低，如果一直對(duì)著一個(gè)點(diǎn)處理，處理溫度就會(huì)逐漸上升，有可能對(duì)產(chǎn)品造成損傷。目前的話，常壓等離子清洗機(jī)也開發(fā)出來了溫度更低的款式，其正常工作時(shí)的溫度在30℃左右。這對(duì)于一些對(duì)溫度比較敏感的材料來說是非常有優(yōu)勢(shì)的。
一部分微電子集成電路器件工藝生產(chǎn)過程中，比如已封裝芯片的攝像頭組件，需要等離子清洗機(jī)進(jìn)行表面處理增加活性和去除污染物，但是在輝光處理時(shí)，由于等離子體具有一定的溫度，帶電粒子的熱運(yùn)動(dòng)，會(huì)對(duì)組件表面進(jìn)行物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)的雙重作用，同時(shí)組件放置在電極托盤上(正負(fù)電極)充當(dāng)了等離子電源的負(fù)載，也成為了正負(fù)電極。處理時(shí)間越長(zhǎng)，金屬電極托盤和工件皆有不同程度的升溫。而這些材料特性在超過比如35℃時(shí)，會(huì)變形變色熱損傷，導(dǎo)致工件廢件。這種情況下，即使是射頻等離子清洗機(jī)也應(yīng)該配有水冷系統(tǒng)，防止溫度過高，造成的熱損失。24285