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洗滌器采用旋轉(zhuǎn)噴淋，結(jié)合機械擦拭，具有高壓、軟噴等多種可調(diào)模式。特別適用于去離子水清洗工藝包括晶圓縫合、晶圓減薄、拋光、CVD等環(huán)節(jié)。它在晶片拋光后的清潔中起著重要作用。單層清洗設(shè)備和自動清洗臺設(shè)備在使用上沒有太大區(qū)別，主要區(qū)別在于清洗方式和精度要求。一個重要的劃分點是半導(dǎo)體的45nm工藝。簡而言之，一臺自動清洗機就是同時清洗多個零件，優(yōu)點是設(shè)備成熟，產(chǎn)能高，而單臺清洗機的優(yōu)點是一個個清洗。

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