一些非高分子無機(jī)氣體(Ar2、N2、H2、O2等)在高、低頻激發(fā),山東低溫表面等離子處理機(jī)價(jià)格產(chǎn)生離子、激發(fā)分子、自由基等各種活性粒子。一般來說,在等離子清洗中,活性氣體可以分為兩類。一種是惰性氣體(Ar2、N2 等)的等離子體,另一種是反應(yīng)氣體(O2、H2 等)的等離子體。。等離子清洗機(jī)的激勵(lì)頻率通常有 40KHz、13.56MHz 和 2.45GHz 三種,具體取決于激勵(lì)頻率。這些被稱為中頻等離子清洗機(jī)、射頻等離子清洗機(jī)和微波。
等離子體處理技術(shù)可有選擇地清洗、活化,山東低溫表面等離子處理機(jī)價(jià)格或涂覆各種材料,包括塑料、金屬、玻璃、薄膜或織物等。根據(jù)這一部分的處理,塑料具有阻隔性,金屬具有耐腐蝕性,玻璃具有耐污染性。材料處理后,涂裝和印刷質(zhì)量高,質(zhì)量穩(wěn)定,耐久性長。常壓等離子體處理技術(shù)可以使用戶的加工過程成為經(jīng)濟(jì)、安全的先進(jìn)加工技術(shù)。。
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高純N2用于產(chǎn)生等離子體,山東低溫表面等離子處理機(jī)價(jià)格同時(shí)預(yù)熱印張以在特定的第二階段激活聚合物材料,其中O2和CF4作為原始?xì)怏w,混合后產(chǎn)生O,F(xiàn)等離子體并與丙烯酸反應(yīng)、PI、FR4、玻璃纖維等達(dá)到凈化效果。第三階段以O(shè)2為原氣,O和F為殘余反應(yīng),保持孔壁清潔。除等離子體化學(xué)反應(yīng)外,清洗過程還涉及與材料表面的物理反應(yīng)。等離子體粒子可以破壞材料表面上或附著在材料表面上的原子,這有利于清潔和蝕刻反應(yīng)。
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在晶圓、玻璃等產(chǎn)品表面顆粒的清除過程中,通常會(huì)采用等離子體對(duì)材料表面的顆粒進(jìn)行轟擊,加以實(shí)現(xiàn)對(duì)顆粒的分散和松動(dòng)處理,然后再進(jìn)行離心清洗等處理工藝,會(huì)有著顯著的效果。在半導(dǎo)體封裝應(yīng)用中尤為突出,在經(jīng)過打線工藝后為防止導(dǎo)線氧化,需采用氬等離子體或氬氫等離子對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)行等離子清洗,實(shí)現(xiàn)更好的產(chǎn)品處理效果。
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