Plasma F Etching SI廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體器件制造，tc-10涂料附著力蝕刻反應(yīng)的三個(gè)步驟是：化學(xué)吸附：F2 & RARR；F2 (ADS) & RARR；2F (ADS) 反應(yīng)：SI + 4F (ADS) & RARR；SIF4 (ADS) 解吸：SIF4 (ADS) & RARR；SIF4 (GAS) 高密度等離子源蝕刻工藝具有很多優(yōu)點(diǎn)，可以更精確地控制工件尺寸、更高的蝕刻速率和更好的材料選擇性。

射頻電磁場(chǎng)的能量耦合效率和等離子體的均勻性很大程度上取決于射頻激勵(lì)電極、線圈或天線的設(shè)計(jì)。工業(yè)上使用的兩種典型RF等離子體發(fā)生器是圖(a)所示的電容耦合等離子體(CCP)發(fā)生器和圖(b)所示的電感耦合等離子體(ICP)或變壓器耦合等離子體(TCP)發(fā)生器。在低壓下更容易產(chǎn)生大面積的低溫非熱平衡等離子體。低氣動(dòng)放電系統(tǒng)通常由真空室（典型尺寸為幾厘米）、氣體分配系統(tǒng)和饋電的電極（或天線）組成。

表3.8不同碳氟比條件對(duì)介質(zhì)層及硅的蝕刻速率、選擇比Etch Rate/(nm/ min>SelectivityUniformity/%）Si3N4SiO2SiSi3N4/SiO2Si3N4/SiSi3N4SiO2SiCH3F261226131.51.10.42CH2F2281681.83.50.430.30.1CHF314555612.62.37.50.50.1。

除了等離子處理方法之外，附著力檢測(cè)儀tc-10還有傳統(tǒng)的清洗方法嗎？迄今為止，化學(xué)試劑已被用于處理聚烯烴材料的表面，這是一種廣泛應(yīng)用于聚烯烴表面預(yù)處理的方法（簡(jiǎn)稱化學(xué)法）。 ..除等離子處理法外，根據(jù)（全部）資料，鉻鹽法（Cr-H2SO4）、過(guò)硫酸鹽法、鉻酸法、氯磺化法、氯酸鉀法、白磷法、高錳酸鉀法有規(guī)律和很快。 10種。

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等離子清洗機(jī)在LCD-COG液晶組裝工藝中的應(yīng)用LCD的COG組裝過(guò)程，是將裸片IC貼裝到ITO玻璃上，利用金球的壓縮與變形來(lái)使ITO玻璃上的引腳與IC上的引腳導(dǎo)通。由于精細(xì)線路技術(shù)的不斷發(fā)展，目前已經(jīng)發(fā)展到生產(chǎn)Pitch為20μm、線條為10μm的產(chǎn)品。

從這個(gè)圖上戈登?摩爾發(fā)現(xiàn)每個(gè)新芯片大體上包含其前任兩倍的容量，而且每個(gè)新芯片的產(chǎn)生都是在前一個(gè)芯片產(chǎn)生后的18-24個(gè)月內(nèi)。如果按這個(gè)趨勢(shì)繼續(xù)計(jì)算能力相對(duì)于時(shí)間周期將呈指數(shù)式的上升。摩爾的觀察結(jié)果，就是現(xiàn)在所謂的摩爾定律。他當(dāng)時(shí)預(yù)測(cè)，在今后的10年中芯片上的器件數(shù)將每年翻一番，并會(huì)在1975年達(dá)到6500個(gè)“對(duì)集成電路而言，降低成本具有相當(dāng)?shù)奈Α?/p>

此外，主動(dòng)清洗站無(wú)法避免相互污染的弊端，因?yàn)槎鄠€(gè)晶圓是一起清洗的。洗滌器也是雖然采用旋轉(zhuǎn)噴淋方式，但在機(jī)械擦洗的配合下具有高壓、軟噴等可調(diào)方式，適用于晶圓切割、晶圓減薄、晶圓拋光等用去離子水清洗的工藝中使用。 、研磨、CVD等環(huán)節(jié)，尤其是晶圓拋光后的清洗。使用單個(gè)晶圓清洗機(jī)和主動(dòng)清洗站之間沒(méi)有太大區(qū)別。兩者的主要區(qū)別在于以45nm為主要邊界點(diǎn)的清洗方式和精度要求。

：等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合產(chǎn)生的獨(dú)特現(xiàn)象和物質(zhì)。典型的等離子體由電子、離子、自由基和質(zhì)子組成。正如將固體轉(zhuǎn)化為氣體需要能量一樣，產(chǎn)生離子體也需要能量。等離子體可以導(dǎo)電并與電磁力發(fā)生反應(yīng)。一種在小型等離子體清洗蝕刻機(jī)中產(chǎn)生等離子體的裝置，在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，然后實(shí)現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體越來(lái)越稀薄，分子之間的距離以及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也越來(lái)越長(zhǎng)。

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如果處理時(shí)間不長(zhǎng)，tc-10涂料附著力材料的表面溫度將與室溫相同。 13.56MHz的頻率較低，通常小于30°。因此，在處理易受熱變形的材料時(shí)，低溫真空等離子清洗機(jī)更為合適。工作時(shí)，空腔中的離子沒(méi)有定向。只要材料在型腔的裸露部分，就可以在任何一側(cè)或角落進(jìn)行清洗。。1、真空電磁閥真空等離子清洗機(jī)必須保持操作過(guò)程中所需的真空和真空室的密封。因此，連接腔體的每個(gè)氣路閥必須滿足真空密封的要求。選擇匹配的腰帶。氣控真空電磁閥。

注意事項(xiàng)： 1、要定時(shí)做維護(hù)保養(yǎng)和維修保養(yǎng)。在對(duì)等離子清洗機(jī)做維護(hù)保養(yǎng)和維修保養(yǎng)的時(shí)分，tc-10涂料附著力要先把機(jī)器設(shè)備的開(kāi)關(guān)電源關(guān)掉，不能帶電操作，防止呈現(xiàn)意外。2、在運(yùn)用等離子清洗機(jī)的時(shí)分，要依照設(shè)備的運(yùn)用手冊(cè)操作，對(duì)它運(yùn)作時(shí)的主要參數(shù)做恰當(dāng)?shù)脑O(shè)定，不可以隨便地設(shè)置。3、在運(yùn)用沛沅Pluto系列等離子清洗機(jī)的時(shí)分，如呈現(xiàn)特殊情況需要緊迫中止，可按一鍵急停按鈕。如無(wú)特殊情況，按正常操作流程操作。