在半導(dǎo)體技術(shù)包裝的生產(chǎn)過程,由于各種等離子體,通量,交叉污染,自然氧化,設(shè)備和產(chǎn)品和其他因素引起的各種各樣的外部污染,包括環(huán)氧樹脂、光致抗蝕劑和焊接,金屬鹽等有很大影響包裝的生產(chǎn)過程。使用等離子體設(shè)備可將容易通過分子級污染形成的生產(chǎn)過程清洗干凈，芯片等離子表面處理工藝保證原子之間的粘附與工件外部原子的緊密接觸，從而有效地增強粘接強度，可提高芯片拼接水平，降低泄漏率，提高包裝效率，提高產(chǎn)量和可靠性。

集成電路的性能高是因為小尺寸帶來短路徑，芯片等離子體刻蝕機允許在快速切換速度下使用低功耗邏輯電路。近年來，隨著集成電路不斷演化成更小的形狀，每個芯片可以封裝許多電路。這樣既增加了單位面積容量，又可以降低成本，增加功能。簡而言之，隨著標(biāo)尺尺寸的縮小，幾乎所有指標(biāo)都得到了改善，單位成本和開關(guān)功率都下降了，速度增加。然而，器件的泄漏電流隨著尺寸的減小而增大，所以速度和功耗的增加對用戶來說是非常明顯的。

被等離子清洗設(shè)備清洗后，芯片等離子表面處理工藝物體的粘接強度增加。鉛拼接:芯片拼接基片前和經(jīng)過高溫固化后，現(xiàn)有的污染物可能含有顆粒和氧化物，這些污染物的物理化學(xué)與鉛發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，以及芯片與基片之間焊接不良，結(jié)合強度差，附著力不足。射頻等離子清洗可以顯著提高引線的表面活性，提高其結(jié)合強度和抗拉強度。焊頭上的壓力可以很低(當(dāng)有污染物時，焊頭需要很大的壓力才能穿透污染物)，有時可以降低粘接溫度，以提高產(chǎn)量，降低成本。

這些自由基的產(chǎn)生對于通常不接受油墨的印刷表面也是有用的。如果印刷是在明亮或光滑的表面上進行的，芯片等離子表面處理工藝必須激活等離子體，以便印刷表面能夠接受油墨并產(chǎn)生抗污效果。真空等離子體表面清潔器可用于涂覆表面以增強其光澤，這一過程稱為等離子體聚合。真空等離子體被用來蝕刻一層幾個原子厚的材料，用于制造小型集成電路芯片。

芯片等離子表面處理工藝

芯片和承載板采用等離子清洗機處理,不僅可以得到超級凈化焊接表面,同時也可以大大提高焊接表面的活動,這樣我們就可以有效地防止虛焊和減少孔,提高填料高度和包容性的邊緣,(4)陶瓷包裝:陶瓷包裝通常采用金屬漿糊印刷電路板作為粘接區(qū)，覆蓋密封區(qū)，提高產(chǎn)品的可靠性和使用壽命。在這些材料表面電鍍Ni和Au之前，采用等離子清洗機去除有機鉆孔污漬，明顯提高涂層質(zhì)量。

*清洗電子元器件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。*清潔光學(xué)鏡片、電子顯微鏡鏡片及其他鏡片和載片。*去除光學(xué)及半導(dǎo)體元件表面的光阻材料。清潔ATR成分，各種形狀的人造晶體，天然晶體和寶石。清潔半導(dǎo)體元件和印刷電路板。*清潔生物芯片和微流控芯片。*清洗沉積凝膠的基底。*高分子材料的表面改性。牙科材料、人工植入物和醫(yī)療設(shè)備的消毒和滅菌。*提高粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)用材料、航空航天材料等膠水的附著力和力。

去除接縫表面的有機污染物并進行表面清洗，使覆膜材料表面發(fā)生各種物理、化學(xué)變化，或產(chǎn)生蝕刻而粗糙，或形成致密的交聯(lián)層，或引入氧極性基團，使其親水性、粘結(jié)性、染色性、提高了生物相容性和電性能。在適當(dāng)?shù)墓に嚄l件下加工材料表面后，使材料表面形貌發(fā)生顯著變化，引入了多種含氧基團，使表面從非極性、難黏性變?yōu)榫哂幸欢O性、黏性和親水性，增加了表面結(jié)合能，并且不對表面造成任何損傷，不在表面涂膜或涂膜脫落。

聚四氟乙烯材料的粘結(jié)性能與真空等離子體清洗機的活化效果密切相關(guān)?；罨Чc設(shè)備結(jié)構(gòu)、工藝參數(shù)、物料本體等諸多因素有關(guān)，工藝參數(shù)因素主要包括以下幾個方面。放電功率、時間和溫度:在相同的處理時間下，放電功率和等離子體轟擊能量越高，處理效果一般越好。隨著處理時間的延長，真空等離子體清洗機真空室中的電極和氣體溫度會升高，PTFE材料容易變形。

芯片等離子表面處理工藝

02汽車輪胎等離子體在汽車輪胎中的應(yīng)用:給油:輪胎內(nèi)部生產(chǎn)時會產(chǎn)生一定量的油，芯片等離子體刻蝕機可進行等離子處理，使其干燥而不傷及表面;改性、活化:經(jīng)過等離子體處理后可以改變表面性能，增加附著力，使輪胎涂層時粘結(jié)更加牢固。汽車收納箱在靜電植絨時，通常在施膠前在基材上加一層底涂層，以使膠水與收納箱更好的粘合。采用低溫等離子表面處理技術(shù)代替涂膠前的底涂工藝，不僅可以活化表面提高附著力，還可以降低成本，工藝更環(huán)保。

隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，芯片等離子表面處理工藝濕法蝕刻由于其固有的局限性逐漸限制了它的發(fā)展，因為它不能滿足微米甚至納米細(xì)線的超大規(guī)模集成電路的加工要求。芯片等離子體刻蝕機的干式刻蝕法以其離子密度高、刻蝕均勻、表面光潔度高等優(yōu)點在半導(dǎo)體加工技術(shù)中得到了廣泛的應(yīng)用。等離子蝕刻機是一種多功能等離子表面處理設(shè)備，可以配備不同的零件，如表面電鍍、蝕刻、等離子化學(xué)反應(yīng)、粉末等離子處理等。等離子體蝕刻機對硅片的蝕刻效果良好。