簡單來說，劃圈法測附著力標(biāo)準(zhǔn)該自動(dòng)清洗平臺(tái)是多片同時(shí)清洗，優(yōu)點(diǎn)是設(shè)備成熟，容量大，而單片清洗設(shè)備是一塊清洗，優(yōu)點(diǎn)是清洗精度高，背面、斜面和邊緣都可以有效清洗，同時(shí)避免晶圓之間的交叉污染。在45nm之前，自動(dòng)清洗臺(tái)就可以滿足清洗要求，目前仍在使用;45以下的工藝節(jié)點(diǎn)依靠單片清洗設(shè)備來實(shí)現(xiàn)清洗精度要求。隨著工藝節(jié)點(diǎn)的不斷減少，單片晶圓清洗設(shè)備是當(dāng)前可預(yù)見技術(shù)下未來清洗設(shè)備的主流。

1.采用數(shù)控技術(shù)的先進(jìn)自動(dòng)化2.采用先進(jìn)控制設(shè)備的高精度時(shí)間控制3.正確的等離子清洗不會(huì)損壞被包裝產(chǎn)品的表面4、包裝清潔產(chǎn)品表面二次不污染五。環(huán)保、環(huán)保、不污染環(huán)境。使用等離子清洗機(jī)時(shí)需要注意一些問題，劃圈法測附著力的精度清洗有幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)。等離子處理作為一種新型的表面處理技術(shù)，近年來已在各個(gè)行業(yè)得到應(yīng)用。等離子技術(shù)也有自己的技術(shù)特點(diǎn)。

　　等離子體清洗還具有以下幾個(gè)特點(diǎn)：容易采用數(shù)控技術(shù)，劃圈法測附著力標(biāo)準(zhǔn)自動(dòng)化程度高；具有高精度的控制裝置，時(shí)間控制的精度很高；正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層，表面質(zhì)量得到保證；由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，保證清洗表面不被二次污染。

由于等高子清洗機(jī)在運(yùn)行時(shí)等離子體狀況的不同，劃圈法測附著力標(biāo)準(zhǔn)這也導(dǎo)致適合處理產(chǎn)。品的不同。像旋轉(zhuǎn)型的噴頭望文生義便是在處理產(chǎn)品時(shí)是可以旋轉(zhuǎn)的，處理規(guī)模相對較大。比照直噴式的噴頭，它的噴嘴是固定的，處理規(guī)模相對較小。所以說詳細(xì)選哪一種噴頭類型，仍是要看處理產(chǎn)品的類型。

劃圈法測附著力標(biāo)準(zhǔn)

等離子體產(chǎn)生的氧自由基具有很強(qiáng)的活性，容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等揮發(fā)性物質(zhì)，從而清除表面污染物。

按照產(chǎn)生氣體分類：活潑氣體和不活潑氣體等離子體活潑氣體和不活潑氣體等離子體，根據(jù)產(chǎn)生等離子體時(shí)應(yīng)用的氣體的化學(xué)性質(zhì)不同，可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類，不活潑氣體如氬氣（Ar）、氮?dú)猓∟2）、氟化氮（NF3）、四氟化碳（CF4）等，活潑氣體如氧氣（O2）、氫氣（H2）等，不同類型的氣體在清洗過程中的反應(yīng)機(jī)理是不同的，活潑氣體的等離子體具有更強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)活性。。

等離子蝕刻機(jī)技術(shù)已經(jīng)被國外公司壟斷，芯片技術(shù)發(fā)展日新月異，即使我們花高價(jià)從國外購買，他們已經(jīng)過時(shí)過時(shí)的老設(shè)備出口過去，真正先進(jìn)的技術(shù)始終掌握在他們手中。為了打破國外對于芯片技術(shù)的壟斷，中國投入了大量的人力物力，經(jīng)過中國研究人員的不懈努力，終于在蝕刻領(lǐng)域取得了技術(shù)突破，讓芯片技術(shù)不再卡在我們的脖子上，這種等離子蝕刻機(jī)下面是自己研發(fā)的等離子蝕刻機(jī)(等離子處理器)。

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劃圈法測附著力標(biāo)準(zhǔn)