等離子體對(duì)油脂和污垢的作用與焚燒油脂和污垢的作用相似；但不同的是它的低溫“焚燒”。其基本起源原理：在氧等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)態(tài)氧分子、電子和紫外線的共同作用下，納米二氧化鈦附著力油分子zui最終被氧化成水和二氧化碳分子，從物體表面根除。真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品的優(yōu)點(diǎn)：1.超大加工空間，提升加工能力，采用PLC觸摸屏控制系統(tǒng)，精確控制設(shè)備運(yùn)行。2.設(shè)備腔體容量、層數(shù)可根據(jù)客戶要求定制，滿足客戶需求。

被激發(fā)的自由基具有很高的能量，納米二氧化鈦附著力實(shí)驗(yàn)因此它們與表面分子結(jié)合時(shí)往往會(huì)形成新的自由基。自由基也不穩(wěn)定。它是一種高能狀態(tài)，可以與小分子同時(shí)發(fā)生分解反應(yīng)產(chǎn)生新的自由基。這個(gè)反應(yīng)過程繼續(xù)進(jìn)行，最終可以分解成簡(jiǎn)單的分子，如水和二氧化碳。在其他情況下，當(dāng)自由基與物體的表面分子結(jié)合時(shí)，會(huì)釋放出大量的鍵能，進(jìn)而引發(fā)新的表面反應(yīng)，從而引發(fā)化學(xué)反應(yīng)。物體表面的物質(zhì)被去除。

利用脈沖高壓高頻等離子體電源和齒板放電裝置，納米二氧化鈦附著力產(chǎn)生高強(qiáng)度、高濃度、高電能的活性自由基，在毫秒內(nèi)瞬間氧化還原有害廢氣分子，將廢氣中的大部分污染物降解為二氧化碳、水和易處理物質(zhì)。等離子體凈化技術(shù)是指利用脈沖電暈放電產(chǎn)生的高能電子，電子、離子、自由基和中性粒子以每秒300萬(wàn)至3000萬(wàn)次的速度反復(fù)轟擊有異味的分子。工業(yè)廢氣中組分的失活、電離和裂解導(dǎo)致氧化等一系列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)。

等離子清洗機(jī)在印刷電路板行業(yè)的應(yīng)用：醫(yī)療診斷行業(yè)等離子清洗劑應(yīng)用：醫(yī)療器械行業(yè)等離子清洗劑應(yīng)用：彈性體行業(yè)等離子清洗劑應(yīng)用：光學(xué)行業(yè)等離子清洗劑應(yīng)用：包裝行業(yè)；汽車制造；納米技術(shù)；精密儀器等。

納米二氧化鈦附著力

低溫等離子體清洗機(jī)表面改性特點(diǎn):與傳統(tǒng)的化學(xué)表面處理、火焰處理、電暈處理相比，低溫等離子體表面改性具有以下明顯的優(yōu)點(diǎn):1、加工時(shí)間短、節(jié)能、縮短工藝流程;反應(yīng)環(huán)境溫度低，工藝簡(jiǎn)單，操作方便;3、處理深度僅為幾納米到微米，不影響材料基體的固有性質(zhì);對(duì)所處理的物料具有普遍的適應(yīng)性，并能處理形狀復(fù)雜的物料;5、可采用不同的氣體介質(zhì)處理，對(duì)物料表面的化學(xué)結(jié)構(gòu)和性能具有良好的可控性。

北京公司（）是PLASMA TECHNOLOGY真空等離子清洗機(jī)的獨(dú)家經(jīng)銷商，可以完成物體的表面改性、活化、蝕刻和納米涂層。。等離子清洗機(jī)的表面活化等離子是一種在真空和放電等特殊情況下產(chǎn)生氣體分子的物質(zhì)。一種通過清洗和蝕刻等離子體產(chǎn)生等離子體的裝置，在密閉容器中設(shè)置兩個(gè)電極，形成電磁場(chǎng)，并利用真空泵達(dá)到一定的真空度。隨著氣體變得越來(lái)越稀薄，分子距離和分子和離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也越來(lái)越小。

這極大地改善了材料表面氧化物和納米（m）級(jí)微生物的去除。真空等離子 等離子清洗機(jī)通入氣體的目的是為了增強(qiáng)蝕刻效果（效果），去除污染物，去除有機(jī)（有機(jī)）物質(zhì)，增加侵入性。顯然，氣體選擇更廣泛，真空等離子等離子清洗工藝應(yīng)用更廣泛。。等離子清洗劑在醫(yī)療診斷行業(yè)中的應(yīng)用：活化改進(jìn)的細(xì)胞和生物材料對(duì)臨床診斷平臺(tái)的粘附 胺化-胺化為聚合物材料上的生物和傳感器分子提供結(jié)合位點(diǎn)官能團(tuán)。

納米材料自修復(fù)機(jī)制的發(fā)現(xiàn)為納米材料的抗輻照功能提供了理論基礎(chǔ)，為解決聚變反應(yīng)堆中鎢基數(shù)據(jù)的上述問題提供了重要途徑。因此，如何通過適當(dāng)?shù)姆椒ǐ@得超細(xì)/納米晶鎢，提高鎢的延伸功能和抗輻射性能，改善鎢的脆化行為，擴(kuò)大其應(yīng)用條件的范圍，成為等離子體數(shù)據(jù)聚變反應(yīng)堆的一個(gè)重要研究方向。

二氧化鈦附著力

硅基板表面有直徑為10～2納米的顆粒，納米二氧化鈦附著力實(shí)驗(yàn)但由于等離子清洗裝置的影響，除極小的納米顆粒外，基本被完全去除。沖擊波對(duì)微納米顆粒的去除效果很明顯，直徑大于0.5微米的顆粒去除比較徹底，但小于這個(gè)尺寸的顆粒基本去除了50%左右。 原始金額。等離子清洗裝置的輻射光譜由連續(xù)光譜和疊加在其上的線性光譜組成，具有從紫外線到近紅外線的寬光譜范圍，但主要集中在可見光范圍內(nèi)。