這是輝光放電的一個(gè)顯著特點(diǎn)，電極上的附著力而且在正常輝光放電中，兩電極間的電壓不隨電流變化。由處于能量活躍的激發(fā)態(tài)的原子、離子或分子向下躍遷發(fā)光而形成的等離子體的顏色。由于每種氣體中的能級有不同的能量轉(zhuǎn)換，每種工藝氣體表現(xiàn)出不同的發(fā)光特性，從而產(chǎn)生不同的顏色特性。

通過在 15-25 kHz 的頻率下保持電極之間高達(dá) 80 kV 的電位差，分析氣泡在電極上的附著力可以在高速線上對 3D 對象進(jìn)行一致的表面處理。在這些條件下，橫截面為 4 英寸 (mm) 的物體在處理室中連續(xù)移動(dòng)，可以在線處理。電表面處理系統(tǒng)由高頻發(fā)生器、高壓變壓器和處理電極組成。發(fā)生器產(chǎn)生的輸出信號(hào)會(huì)根據(jù)負(fù)載阻抗在 15-25 kHz 范圍內(nèi)自動(dòng)調(diào)整頻率。這優(yōu)化了可用于治療的功率。

負(fù)電暈的擊穿電壓高于正電暈，分析氣泡在電極上的附著力因?yàn)檎?fù)電暈的放電機(jī)制不同，空間電荷分布有利于正電暈。如果兩個(gè)電極為小曲率半徑的電極，則形成雙極電暈，正負(fù)電暈共存，在外部區(qū)域流動(dòng)的電流是雙向的。它由帶正電和帶負(fù)電的粒子組成。在相同條件下，雙極電暈的啟動(dòng)電壓會(huì)低于單極電暈的啟動(dòng)電壓。電暈放電的機(jī)理不同于等離子表面清潔劑。

輝光放電時(shí)的氣壓對材料處理效果有很大影響，電極上的附著力還與放電功率、氣體成分、流速、材料種類等因素有關(guān)；不同的放電方式、工質(zhì)狀態(tài)以及上述影響等離子體產(chǎn)生的因素可以組合成各種低溫等離子體處理設(shè)備；。由于等離子體處理只作用于材料的表層，處理后材料表面的物理化學(xué)變化也發(fā)生在這一層，所以在研究等離子體處理的時(shí)效性時(shí)，主要采用一些關(guān)于材料表面的物理化學(xué)分析方法。

電極上的附著力

根據(jù)物質(zhì)反應(yīng)原理，等離子體火焰機(jī)清洗一般是由無機(jī)氣體引起的等離子體氣相材料吸附在固體表面上的吸附基團(tuán)與固體表面分子發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)物的形成分子分析，產(chǎn)物的形成分子分析，氣相反應(yīng)殘留物的形成和表面分離。目前，等離子清洗機(jī)主要采用箱式清洗機(jī)對機(jī)架或芯片進(jìn)行清洗，等離子清洗機(jī)通常由清洗室、氣源、動(dòng)力源和真空泵四部分組成。

一方面，大氣壓等離子體處理器的電離輻射釋放能量，造成等離子體能量的損失。同時(shí)，一些氣體電離輻射也會(huì)激發(fā)光離子化，從而有效地激發(fā)反應(yīng)體系。 ，等離子電離輻射攜帶大量等離子內(nèi)部信息。基于電離輻射頻率和強(qiáng)度研究或時(shí)間分析，可以診斷等離子體密度、溫度和粒子狀態(tài)，并可以獲得有關(guān)反應(yīng)過程的相關(guān)信息。在大氣壓等離子體處理器中，等離子體具有三種主要的電離輻射過程：激發(fā)電離輻射、復(fù)合電離輻射和源電離輻射。

等離子體清洗機(jī)的等離子體活化蝕刻：材料表面蝕刻-物理作用等離子體清洗機(jī)生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的大量離子、激發(fā)分子、自由基等活性顆粒作用于固體樣品表面，不僅去除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，還會(huì)產(chǎn)生蝕刻效應(yīng)，使樣品表面變得粗糙，形成許多細(xì)小的坑洞，從而增加了樣品的比表面積。提高固體表面的潤濕性。

適用于鋸片、晶圓減薄、晶圓拋光和研磨等去離子水清洗工藝。尤其是 CVD 用于晶圓拋光后的清潔。單晶等離子發(fā)生器的應(yīng)用與自動(dòng)清洗臺(tái)的應(yīng)用沒有太大區(qū)別。兩者的主要區(qū)別在于清洗方式和精度要求，其中 45nm 是一個(gè)重要的邊界。自動(dòng)清洗臺(tái)是一種多層同時(shí)清洗，設(shè)備成熟，產(chǎn)能高，但單晶清洗設(shè)備是逐層清洗，背面傾斜，清洗精度高，所以背面是可以有效清洗。防止傾斜表面和邊緣、晶片的相互污染。

分析氣泡在電極上的附著力

用于金屬表面除油和清洗的等離子表面處理設(shè)備等離子表面處理設(shè)備最早出現(xiàn)在德國，電極上的附著力是世界上最早的研發(fā)和實(shí)踐場所。最早只是常溫等離子設(shè)備。隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，出現(xiàn)了低溫低壓等離子體設(shè)備和等離子體射頻電源。深圳是一家與德國等離子技術(shù)等離子設(shè)備制造商合作的公司，也是中國區(qū)總代理公司，建立了長期的友誼。等離子清洗機(jī)設(shè)備主要用于清洗、蝕刻、砂光和表面制備等，采用三種不同的射頻發(fā)射器，滿足不同清洗效率和清洗效果的需要。

表 3-3 顯示了各類催化劑在大氣等離子體等離子體影響下的催化活性。從表3-3可以看出，電極上的附著力在純等離子體條件下，C2H6和CO2的轉(zhuǎn)化率分別為33.8%和22.7%，C2H4和C2H2的總收率為12.7%。在反應(yīng)體系中引入負(fù)載型稀土氧化物催化劑（LA2O3/Y-AL2O3和CEO2/Y-AL2O3）提高了C2H6的轉(zhuǎn)化率，提高了C2H4的選擇性和收率，提高了C2H2的選擇性和收率。率略低。