其基本原理:在氧氣等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)態(tài)的氧氣分子、電子以及紫外線的共同作用下，重慶大氣低溫等離子體表面處理機(jī)公司被斷鍵后的有機(jī)污染物的元素會與高活性的氧離子發(fā)生化學(xué)反應(yīng),形成CO、CO2、H2O等分子結(jié)構(gòu)脫離表面,達(dá)到表面清洗、活化、蝕刻目的。等離子清洗機(jī)氧氣主要應(yīng)用于高分子材料表面活化及有機(jī)污染物去除,但不適用于易氧化的金屬表面。

此外，等離子體中的氧原子這是由于空氣等離子體中的氧原子、氧分子或其他活性物質(zhì)被氧化，在材料表面形成新的含氧官能團(tuán)，降低了含碳成分的含量，降低了上述含鐵氧化物表明金屬表面發(fā)生了氧化反應(yīng)，進(jìn)一步證明金屬表面引入了含氧基團(tuán)，含氧基團(tuán)的引入增加了上述極性基團(tuán)的數(shù)量. 增加。基材表面提高了表面的極性，提高了潤濕性。

等離子體對油脂塵垢的效果，等離子體中的氧原子類似于使油脂塵垢產(chǎn)生焚燒反響;但不同之處是其在低溫情況下產(chǎn)生的“焚燒”。其基本原理:在氧氣等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)態(tài)的氧氣分子、電子以及紫外線的一起效果下，油脂分子zui終被氧化成水和二氧化碳分子，并從物體外表被鏟除。 真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品長處：　　1、超大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC 觸摸屏操控系統(tǒng)，準(zhǔn)確的操控設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)。

工業(yè)不僅可以精確控制表面拓?fù)?，重慶大氣低溫等離子體表面處理機(jī)公司還可以選擇是否形成復(fù)合層。另外，低溫等離子發(fā)生器。如果金屬表面有狹縫或孔洞，則可以通過此工藝輕松實(shí)現(xiàn)氮化。傳統(tǒng)低溫等離子發(fā)生器的氮化工藝采用直流或脈沖異常輝光放電。該工藝對于低合金鋼和工具鋼的滲氮是可以接受的，但不適用于不銹鋼，尤其是具有奧氏體結(jié)構(gòu)的鋼。由于高溫氮化時(shí)CrN析出，金屬表面堅(jiān)硬耐磨，但有易腐蝕的缺點(diǎn)。

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常用的等離子體激發(fā)頻率有三種：激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲等離子體，13.56MHz的等離子體為射頻等離子體，2.45GHz的等離子體為微波等離子體。不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣。超聲等離子體的自偏壓為1000V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機(jī)制不同。

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第二階段以O(shè)2和CF4為原始?xì)怏w，混合后產(chǎn)生O、F等離子，丙烯酸、PI、FR4、玻璃等使高分子材料處于特定的活化狀態(tài)發(fā)生反應(yīng)。纖維達(dá)到去污的目的。第三階段以O(shè)2作為原始?xì)怏w，產(chǎn)生的等離子體和反應(yīng)殘?jiān)鼘妆谶M(jìn)行清潔。在等離子清洗過程中，除等離子化學(xué)反應(yīng)外，等離子還與材料表面發(fā)生物理反應(yīng)。等離子體粒子敲除材料表面上的原子或附著在材料表面上的原子。這有利于清潔和蝕刻反應(yīng)。

4、等離子體分解VOC技術(shù)及相關(guān)概念等離子體是不同于固體、液體、氣體等物質(zhì)的第四種存在狀態(tài)，含有離子、電子、受激原子或分子、自由基等物質(zhì)。 .之所以稱為等離子體，是因?yàn)闅怏w在正負(fù)空間范圍內(nèi)的電荷相等。它是一種由大量正、負(fù)電荷粒子和中性粒子組成的準(zhǔn)中性氣體，表現(xiàn)出集體行為。其主要特征是粒子間存在長程庫侖相互作用，等離子體運(yùn)動與電磁場運(yùn)動之間存在緊密耦合，存在非常豐富的集體效應(yīng)和集體運(yùn)動模式。

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）、惰性氣體如氧氣（O2）和氫氣（H2）如氟化氮（NF3）和四氟化碳（CF4），等離子體中的氧原子清洗過程中的各種氣體有不同的反應(yīng)機(jī)理。惰性氣體等離子體具有較強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)性，后面將結(jié)合具體應(yīng)用實(shí)例進(jìn)行介紹。 2.4 等離子體與物體表面的相互作用 等離子體中的氣體分子、離子和電子，以及被能量激發(fā)的電中性原子或原子團(tuán)（也稱為自由基），以及等離子體發(fā)出的光。 .其中，波長和能級在等離子體與材料表面的相互作用中起著重要作用。

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