低溫等離子體的能量一般為幾到幾十個電子伏特（電子0到20 eV，蝕刻電路板化學(xué)方程式離子0到2 eV，半穩(wěn)態(tài)離子0到20 eV，紫外/可見光3到40 eV），但CF鍵的PTFE 的鍵能為 4.4 eV，CC 鍵的鍵能為 3.4 eV。從此可以事實證明，冷等離子體的能量高于這些化學(xué)鍵的能量。這足以破壞聚四氟乙烯表面的分子鍵，蝕刻等一系列物理化學(xué)反應(yīng)在此交匯。 - 發(fā)生鏈接和移植。

B 適用部位：所有工業(yè)材料、普通金屬、玻璃、陶瓷。等離子蝕刻是一種各向異性蝕刻技術(shù)，蝕刻電路板的離子方程式可確保蝕刻圖案選擇性、特殊材料和蝕刻一致性（效果）。真空等離子清潔器的等離子蝕刻涉及同時基于等離子的物理蝕刻和基于反應(yīng)基團(tuán)的化學(xué)蝕刻。

等離子蝕刻中等離子清洗機(jī)專用氣體的使用：先進(jìn)邏輯芯片的完整制造過程涉及數(shù)千個獨立的過程，蝕刻電路板化學(xué)方程式并使用大約 100 種不同的氣體材料。

由于所有半導(dǎo)體濕法刻蝕系統(tǒng)都是各向同性刻蝕，蝕刻電路板的離子方程式因此氧化層和金屬層的刻蝕寬度接近垂直刻蝕寬度。深度。結(jié)果，上層光刻膠的圖案與下層材料的圖案存在一定的差異，無法實現(xiàn)高質(zhì)量的圖案轉(zhuǎn)移和復(fù)制。因此，隨著特征尺寸變得更小，該過程在圖案轉(zhuǎn)移中基本上已經(jīng)過時了。。濕法蝕刻系統(tǒng)過程中涉及的步驟：濕法工藝系統(tǒng)提供受控的化學(xué)滴落功能，進(jìn)一步增強(qiáng)了從基板表面去除顆粒的能力。同時SWC和LSC都有跌落測試系統(tǒng)，可以節(jié)省大量化學(xué)試劑。

蝕刻電路板化學(xué)方程式

這種高度電離的宏觀中性氣體被稱為等離子體。等離子清洗是等離子表面改性的常用方法之一。等離子刻蝕機(jī)的主要作用如下。 (1)等離子刻蝕機(jī)有大量離子、激發(fā)分子、自由基等活性粒子，能影響樣品表面，但不能。它不僅去除了原有的污染物和雜質(zhì)，而且產(chǎn)生了蝕刻效果，使樣品表面變粗糙，形成許多小坑，增加了樣品的表面。改善固體表層的保濕。 (2) 激活鍵能量和交聯(lián)功能。

等離子體去除棉纖維雜質(zhì)的效果與常規(guī)燒堿熔煉相當(dāng)，但常壓等離子體處理更加環(huán)保環(huán)保。。等離子蝕刻機(jī)技術(shù) PTFE 等離子多孔膜 界面粘合性能 表面處理：聚四氟乙烯微孔膜具有化學(xué)穩(wěn)定、耐高溫、耐腐蝕、優(yōu)良的耐水性、疏油性、耐高溫、高濕和高耐腐蝕性能。它具有優(yōu)良的過濾性能。 ，并可廣泛用于冶金、化工、煤炭、水泥等行業(yè)的除塵過濾。是一種耐高溫復(fù)合過濾材料的薄膜材料。

高能電子與乙烷分子發(fā)生彈性和非彈性碰撞。取決于高（3-26）能電子的能量，碰撞增加了乙烷分子的動能或內(nèi)能，破壞了乙烷的CH和CO鍵并產(chǎn)生各種自由基。 C2H6 + e * → C2H5 + H + e (3-27) C2H6 + e * → 2CH3 + e (3-28)根據(jù)表 3-1 中的化學(xué)鍵解離能數(shù)據(jù)，反應(yīng)方程式（3-28）（CC 鍵斷裂）不僅僅是一個反應(yīng)。

示例：H2 + e- → 2H * + eH * + 非揮發(fā)性金屬氧化物 → 金屬 + H2O從反應(yīng)方程式可以看出，氫等離子體可以去除金屬表面的氧化層，清潔金屬表面?；瘜W(xué)反應(yīng)。物理清洗：表面反應(yīng)以物理反應(yīng)為主的等離子清洗。也稱為濺射蝕刻 (SPE)。

蝕刻電路板的離子方程式