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以此為基礎(chǔ)，pet附著力與什么相關(guān)基于成熟的專有技術(shù)，公司在大氣等離子清洗機(jī)的實(shí)際生產(chǎn)中，必須具備出色的穩(wěn)定性和可靠性，這與原有的自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備是一致的。成熟的技術(shù)設(shè)備，根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)的技術(shù)要求，除了現(xiàn)場布置車用動(dòng)力鋰電池表面處理生產(chǎn)線外，增加了保證等離子清洗效果和穩(wěn)定性的相關(guān)功能。還增加了等離子表面處理機(jī)器。 , 滿足參數(shù)采集、數(shù)據(jù)傳輸、遠(yuǎn)距離操作、安全環(huán)保等要求。。
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(d)原料表面層的功能僅涉及納米級(jí)的處理，長沙pet附著力樹脂售價(jià)(e)處理溫度低，對原料表面無損傷，常用樣品處理后能長時(shí)間保持良好效果。根據(jù)客戶需求配置管道生產(chǎn)計(jì)劃(3)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)等離子體設(shè)備主要由高壓勵(lì)磁主機(jī)電源、等離子體發(fā)生器噴嘴和自動(dòng)控制系統(tǒng)組成。A、等離子設(shè)備高壓激勵(lì)主機(jī)電源:等離子的產(chǎn)生必須采用高壓激勵(lì)，常壓等離子設(shè)備采用中頻電源激勵(lì)，頻率為10-40khz。高電壓4-10kV，可根據(jù)樣品實(shí)際情況調(diào)整參數(shù)達(dá)到效果。
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在等離子體等離子體催化反應(yīng)中，C2H6分子首先與高能電子碰撞生成CH3和C2H5等活性物種。
以下是超大規(guī)模集成電路制造中常用的幾種等離子蝕刻機(jī)：電容耦合等離子蝕刻機(jī)（capacitively Coupled plasma，CCP）、電感耦合等離子蝕刻機(jī)（Inductively Coupled Plasma, ICP & Transformer Coupled Plasma, ICP & Transforms）。 ）。
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溫等離子體中粒子的能量一般約為幾個(gè)至幾十電子伏特，大于聚合物材料的結(jié)合鍵能(幾個(gè)至十幾電子伏特)，完全可以破裂有機(jī)大分子的化學(xué)鍵而形成新鍵；但遠(yuǎn)低于高能放射性射線，只涉及材料表面，不影響基體的性能。
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