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廣東供應(yīng)等離子清洗機(jī)腔體量大從優(yōu)
具體怎么提升材料表面的親水性呢？這個(gè)首先得從等離子說(shuō)起等離子通俗的說(shuō)就是物質(zhì)存在的一種狀態(tài)，物質(zhì)除了固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)之外，接下來(lái)就是等離子狀態(tài)。任何物質(zhì)都是由分子組成，分子由粒子電子組成，這些粒子電子，統(tǒng)稱為等離子。
等離子清洗機(jī)可有效去除物體表面附著的有機(jī)物、無(wú)機(jī)物等微細(xì)污染物，在提升產(chǎn)品表面的親水性，達(dá)到強(qiáng)化粘接、涂覆、涂鍍等處理工藝的質(zhì)量的同時(shí)，還大幅度提高產(chǎn)品的出品率。
被處理材料表面的附著物可以通過(guò)真空泵進(jìn)行解吸去除，并且可以在不進(jìn)一步清潔或中和的情況下蝕刻表面。。隨著等離子清洗技術(shù)的成熟，很多工藝已經(jīng)應(yīng)用到手機(jī)行業(yè)等等離子清洗機(jī)上?？紤]等離子清洗技術(shù)在手機(jī)行業(yè)的應(yīng)用。像手機(jī)殼一樣，一般都印有l(wèi)ogo或者亮色，但是用了一段時(shí)間，就容易出現(xiàn)logo剝落的現(xiàn)象。針對(duì)這一現(xiàn)象，等離子清洗技術(shù)脫穎而出。還有手機(jī)耳機(jī)。耳機(jī)的線圈驅(qū)動(dòng)振膜，在信號(hào)電流的驅(qū)動(dòng)下不斷振動(dòng)。
同時(shí)C2H6自身與高能電子的非彈性碰撞更易導(dǎo)致其C-C鍵斷裂，生成中基目田基，為CH4形成奠定基礎(chǔ)。因此與plasma等離子體作用下單純C2H6脫氫相比，C2H6轉(zhuǎn)化率，C2H2、C2H4和CH4的收率隨H2濃度增加明顯上升。向C2H6中添加H2的力一個(gè)優(yōu)勢(shì)是抑制了積碳的生成。 等離子體發(fā)生器能量密度對(duì)H2氣氛下C2H6脫氫反應(yīng)的影響如表3-2所示。
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