可見，離子清潔度紫外燈發(fā)出的185nm紫外光可作為氧化劑，而紫外燈發(fā)出的254nm紫外光可作為光解反應(yīng)順利進(jìn)行的必要條件。然而，紫外燈產(chǎn)生臭氧層的能力非常低。例如，最常用的臭氧紫外燈有150WU的形狀。如果氧氣充足，每個(gè)小劑量只有6毫克/瓦。臭氧是光解反應(yīng)中的重要反應(yīng)物，產(chǎn)生的臭氧量直接影響處理效果。等離子技術(shù)利用高壓電場(chǎng)將空氣中的 O2 電離生成 O3，其效率遠(yuǎn)高于紫外燈。

它增加了表面張力并促進(jìn)了等離子發(fā)生器的潤(rùn)濕。當(dāng)塑料腐蝕時(shí)，離子清潔度可以增加等離子發(fā)生器的表面積，提高其附著力。高分子材料難以粘合的原因有很多，但由于表面能低、界面張力高、無法填充（分流）印刷油墨和粘合劑，臨界表面張力通常為31-34達(dá)因/厘米。 ..如果涂有（或油墨、溶劑）的材料表面難以粘附，則分子鏈、相互擴(kuò)散、纏結(jié)的可能性不大，無法獲得很強(qiáng)的粘附強(qiáng)度。氟樹脂等應(yīng)為非極性聚合物。該材料和聚乙烯基本上不含極性基團(tuán)。

換言之，離子清潔度等離子表面處理器電路的選擇性是由電路的Q因子決定的，功率一致性Q值越高，選擇性就越高。等離子表面處理器電源完整性部分的去耦規(guī)劃方法，以確保邏輯在正常運(yùn)行中，需要顯示電路邏輯狀態(tài)的電平值以恒定速率下降。例如，對(duì)于 3.3V 邏輯，高于 2V 的高電壓為邏輯 1，低于 0.8V 的低電壓為邏輯 0。在電源和接地引腳之間的相鄰設(shè)備上放置一個(gè)電容器。在正常情況下，電容器會(huì)被充電并儲(chǔ)存一些電能。

氟乙烯、聚丙烯、聚酯、環(huán)氧樹脂等）可以用等離子充分處理。因此，等離子清潔器microns沒示數(shù)怪那里它特別適用于不耐熱和不耐溶劑的基材。您還可以選擇性地清潔材料的整體、部分或復(fù)雜結(jié)構(gòu)。 8 除了清潔和去污外，它還可以改變?cè)谠S多應(yīng)用中非常重要的材料的表面性能，例如改善表面防潮性能和改善薄膜附著力。

離子清潔度

可以看到，清洗不是清洗，而是處理和反應(yīng)。從機(jī)械角度看：等離子清洗機(jī)的工作氣體激發(fā)的等離子產(chǎn)生電磁場(chǎng)，與物體表面發(fā)生物理化學(xué)反應(yīng)。其反應(yīng)機(jī)理是活性顆粒與被清洗表面碰撞，污染物從表面分離出來，最后被真空泵抽吸?；瘜W(xué)反應(yīng) 各種活性粒子與污染物發(fā)生反應(yīng)，生成揮發(fā)性物質(zhì)，揮發(fā)性物質(zhì)被真空泵吸走，達(dá)到清洗物質(zhì)的目的，但等離子體的核心是“清洗表面”。

【】測(cè)試：PEEK材料真空等離子處理后的接觸角是多少？ PEEK（聚醚醚酮）是一種性能優(yōu)良的特種工程塑料，是制造加工各種機(jī)械零部件的重要材料，在汽車、IT制造等交通機(jī)械領(lǐng)域的應(yīng)用，機(jī)械零部件的增加。線材涂層領(lǐng)域、片材、棒材等領(lǐng)域、紡織領(lǐng)域、醫(yī)學(xué)分析設(shè)備領(lǐng)域等。但是，由于 PEEK 材料本身的親水性較低，真空等離子清潔器在 PEEK 產(chǎn)品的制造中也發(fā)揮著重要作用。

等離子處理的凈化效果：能有效去除物體表面的有機(jī)污染物和氧化物。主要特點(diǎn)： 任何濕法清潔方法都會(huì)使殘留物留在表面上。只有冷等離子表面處理才能實(shí)現(xiàn)完全凈化和超潔凈表面。這改變了材料的原始特性，使其得到廣泛應(yīng)用。它用于在需要高表面清潔度的工藝中代替濕法處理。處理機(jī)理：達(dá)到去除物體表面污垢的目的，主要依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”。

主要特點(diǎn)：濕法清洗方法通常會(huì)在表面留下殘留物，冷等離子表面處理機(jī)可以實(shí)現(xiàn)超凈表面，冷等離子只作用于材料的納米級(jí)表面，改變?cè)胁牧系亩氯?。這是一種對(duì)表面清潔度要求較高的工藝，被廣泛用作濕法處理的替代方法。處理機(jī)理：主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來達(dá)到去除物體表面污垢的目的。氣體被激發(fā)成等離子體狀態(tài)，重粒子與固體表面碰撞，電子和反應(yīng)基團(tuán)與固體表面發(fā)生反應(yīng)，分解成新的氣態(tài)物質(zhì)離開表面。

等離子清潔器microns沒示數(shù)怪那里

只有冷等離子體表面處理才能達(dá)到完全凈化以獲得超潔凈的表面，離子清潔度而冷等離子體只影響材料的納米級(jí)表面。在不改變材料原有特性的情況下，廣泛用于表面清潔度要求高的工藝中代替濕法加工。處理機(jī)理：主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來達(dá)到去除物體表面污垢的目的。氣體被激發(fā)成等離子體狀態(tài)，重粒子與固體表面碰撞，電子和反應(yīng)基團(tuán)與固體表面發(fā)生反應(yīng)，分解成新的氣態(tài)物質(zhì)離開表面。

由于活性等離子體對(duì)被清洗物表面具有物理沖擊和化學(xué)反應(yīng)的雙重作用，等離子清潔器microns沒示數(shù)怪那里使被清洗物表面物質(zhì)變成顆粒和氣態(tài)物質(zhì)，通過真空排出達(dá)到目的。打掃。上海：對(duì)于熱轉(zhuǎn)印前的等離子表面處理，很多都是直接熱轉(zhuǎn)印印刷的，我們從客戶那里了解到，印刷的logo等信息很容易擦除，但我們目前正在這樣做。對(duì)薄膜進(jìn)行等離子表面處理實(shí)驗(yàn)，試驗(yàn)后薄膜表面的張力、附著力和親水性得到有效改善。