plasma中，等離子刻蝕方向性的各向異性一方面，振動(dòng)能按一定順序增加到小的響應(yīng)能量；另一方面，電子與分子的碰撞能傳遞更多的能量，使中性分子變?yōu)槎鄠€(gè)活性成分，或使中等活性成分電離，而新的成分則主要包括超活性中性粒子、陽(yáng)離子和陰離子。傳統(tǒng)的化學(xué)反應(yīng)不能產(chǎn)生很多新的成分，但plasma卻成為1種非常強(qiáng)大的化學(xué)操作手段，它背負(fù)著催化作用。一般而言，溫度較低的反應(yīng)，也許一定溫度下反應(yīng)速度加快的反應(yīng)，都是受等離子體的影響。

紙箱等, 可配置不同數(shù)量的噴槍進(jìn)行加工。處理涂有等離子清洗機(jī)的彩盒后的好處： 1.等離子清洗機(jī)對(duì)表面處理技術(shù)進(jìn)行處理后，河北感應(yīng)耦合等離子刻蝕材料刻蝕可以增加材料的表面張力，提高箱體的粘合強(qiáng)度?？梢蕴岣弋a(chǎn)品的質(zhì)量2、等離子清洗機(jī)不使用熱熔膠，而是使用冷膠或低等級(jí)的普通膠。

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二、真空等離子清洗機(jī)在LeD制造業(yè)的實(shí)際應(yīng)用。電子光學(xué)工業(yè)行業(yè)：清潔LED芯片和固定支架，等離子刻蝕方向性的各向異性合理有效地處理液晶顯示屏柔性薄膜電路粘接問(wèn)題。1.等離子清洗可以全面提高產(chǎn)品工件的表面粗糙度和親水性。2.引線(xiàn)鍵合前的清潔可以顯著提高表面特異性。3.LeD涂膠前的清洗將使集成ic與基材與膠體溶液緊密結(jié)合，氣泡的形成將大大減少。四、合理有效地去除雜質(zhì)細(xì)顆粒。為了提高原料的表面特異性，在處理過(guò)程中不太容易損壞保護(hù)膜。

等離子刻蝕方向性的各向異性

KHz和MHz的差異 物理反響-kHz ? 長(zhǎng)處:不發(fā)生化學(xué)反響，清潔外表不會(huì)留下任何的氧化物，能夠保持被清洗物的化學(xué)純潔性，腐蝕效果各向異性 ? 缺陷:便是對(duì)外表發(fā)生了很大的危害會(huì)發(fā)生很大的熱效應(yīng)對(duì)被清洗外表的各種不同物質(zhì)選擇性差，腐蝕速度較低 化學(xué)反響-MHz ? 長(zhǎng)處：清洗速度較高、選擇性好、對(duì)清除有機(jī)污染物比較有效 ? 缺陷：會(huì)在外表發(fā)生氧化物。

等離子設(shè)備的優(yōu)勢(shì)在于針對(duì)產(chǎn)品做表面清洗處理，表面改性，提升產(chǎn)品性能等特點(diǎn)。。等離子表面清洗機(jī)側(cè)墻蝕刻： 等離子表面清洗機(jī)側(cè)墻蝕刻一般采用四氟化碳(CF4)作為主蝕刻(Main Etch)步驟的氣體。主蝕刻步驟蝕刻掉氮化硅薄膜表面的原生氧化層和大部分厚度的氮化硅薄膜。通過(guò)調(diào)節(jié)蝕刻腔體的壓力和功率，可以控制主蝕刻步驟的各向異性蝕刻，以形成側(cè)墻。

2.2 蝕刻機(jī)制蝕刻機(jī)理的描述適用于所有類(lèi)型的等離子體技術(shù)，而不僅僅是 RIE。一般來(lái)說(shuō)，等離子蝕刻是化學(xué)蝕刻，而不是物理蝕刻。即，固體原子與氣體原子反應(yīng)形成化學(xué)分子，這些化學(xué)分子從襯底表面去除以形成蝕刻。由于VDC的存在，一般會(huì)有一定量的基板濺射，在很多刻蝕中物理刻蝕效果微弱，可以忽略不計(jì)。

低溫等離子體處理可使材料表面發(fā)生刻蝕、交聯(lián)、基團(tuán)引入等，進(jìn)而顯著改變材料的表面特性，例如親水性、憎水性、沿面閃絡(luò)電壓、表面電荷消散、空間電荷積聚特性等。變頻電機(jī)匝間絕緣間的局部放電也是一種發(fā)生在氣隙中材料表面的氣體放電，且其工作電壓為方波脈沖電壓，當(dāng)脈沖極性反轉(zhuǎn)時(shí)，由于材料表面電荷的彌散特性，會(huì)加劇氣隙中的放電劇烈程度。

等離子刻蝕方向性的各向異性

利用AgnesR、Denes等對(duì)PEG進(jìn)行等離子體表面改性，河北感應(yīng)耦合等離子刻蝕材料刻蝕使PEG與不銹鋼表面改性，XPS研究結(jié)果表明，在不銹鋼表面引入大量的低溫等離子體表面改性-CH2-CH2-O基團(tuán)，等離子體刻蝕機(jī)可以顯著提升材料表面的親水性。減小粗糙度，并能大大減少材料表面對(duì)細(xì)菌的吸附。臨床上常采用冠狀血管成形術(shù)(PTCA)治療冠狀血管疾病。