細胞損傷，pmma表面附著力提升PMMA/NVP復合材料表面引起的細胞損傷小于10%。等離子沉積的 C3F8、HEMA 和 NVP 薄膜可以顯著減少角膜細胞損傷。此外，沉積在PMMA表面的NVP薄膜的粘合強度遠小于PMMA。等離子體處理通常是導致表面分子結構發(fā)生變化或表面原子被替換的等離子體反應過程。即使在氧氣或氮氣等惰性氣氛中，等離子體處理也可以在低溫下產(chǎn)生高反應性基團。在這個過程中，等離子體也會發(fā)出高能紫外光。

該現(xiàn)象發(fā)生在蝕刻開始時。與H2相比。這增加了PS的蝕刻速率并降低了選擇性。CO沉積在PS表面并且可以用來調(diào)節(jié)刻蝕選擇性。使用這三種氣體的混合物，pmma表面附著力提升選擇性竟然有5種以上。這適用于工業(yè)生產(chǎn)，但是XE-CO的混合氣體在上面沉積更多的木炭PMMA的表面，破壞了原來的圖案。相比之下，CO-H2的組合對圖案化的影響很小，對實際控制有用。在10NM工藝中，使用CO-H2，邊際尺寸差異小于1NM，直徑15NM。

兔子角膜和晶狀體之間的靜態(tài)“接觸測試”表明，pmma表面附著力提升未經(jīng)等離子體處理的 PMMA 表面造成了 10-30% 的細胞損傷，而經(jīng)過處理的 PMMA/HEMA 復合材料表面結果證明它只造成了 10% 左右。 PMMA/NVP復合材料表面造成的細胞損傷小于10%。等離子沉積的 C3F8、HEMA 和 NVP 薄膜在減少角膜細胞損傷方面都具有明顯（顯著）的效果。

等離子設備等離子體蝕刻對NBTI的影響：負偏壓溫度不穩(wěn)定性(NBTI)指PMOS在柵極負偏壓和較高溫度工作時，pmma與金屬附著力其器件參數(shù)如Vth、gm和Idsat等的不穩(wěn)定性。如果是NMOS器件，就對應PBTI，正偏壓溫度不穩(wěn)定性。 NBTI效應發(fā)現(xiàn)在1961年。

pmma與金屬附著力

第二階段：第二供應商（2021-2023） APPLE正在積極尋找MINI LED關鍵零部件的第二供應商，以分散供應風險并降低成本。這一階段預計將持續(xù)到 2023 年。 MINI LED關鍵元器件的第二供應商大多為中國廠商，成本優(yōu)勢明顯，產(chǎn)量可滿足APPLE要求，出貨占比將大幅提升。

此外，等離子清洗機及其清洗技術也應用在光學工業(yè)、機械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上，而且是產(chǎn)品提升的關鍵技術，比如說光學元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造，超微機械的加工技術、人工關節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術的進步，才能開發(fā)完成。

除了所需的穩(wěn)定性，P型半導體還具備以下條件： (1) 由于HOMO能級高，可與電極形成歐姆接觸，空穴可順利注入。 (2)具有很強的給電子能力。常見的有：并五苯、紅熒烯等稠環(huán)芳烴等聚合物，有機化學半導體用等離子表面處理設備可活化改性的聚合物（3-己基噻吩）。采用等離子表面處理設備對絕緣表面進行裝飾，使有機物的堆積更加均勻光滑，從而顯著提高器件的擴散性，提高器件的功能性。活動和變化，設備性能得到了顯著提升。。

pmma表面附著力提升