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超聲等離子體的自偏置約為0V,什么樹脂在錫板上附著力最好射頻等離子體的自偏置約為250V,微波等離子體的自偏置很低,只有幾十伏特。三種等離子體的形成機理不同。超聲波等離子體的反應(yīng)是物理反應(yīng),射頻等離子體的反應(yīng)是物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng),微波等離子體的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。由于超聲波清洗對被清洗表面的影響最大,因此在實際的半導(dǎo)體生產(chǎn)和應(yīng)用中經(jīng)常采用射頻和微波清洗方法。超聲波清洗對表面除膠、毛刺等處理效果最好。

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符合要求的蝕刻均勻性是芯片成品率的保證。就等離子清洗機蝕刻的各向異性而言,它直接定義了蝕刻微結(jié)構(gòu)的側(cè)壁輪廓。潛在等離子體損傷(PID)對器件的工作性能有很大影響。對于傳統(tǒng)的連續(xù)等離子體刻蝕,當(dāng)器件尺寸減小到14nm節(jié)點以下時,實現(xiàn)上述刻蝕目標(biāo)變得越來越困難。為了應(yīng)對這些挑戰(zhàn),等離子體清洗機等離子體脈沖刻蝕技術(shù)得到了發(fā)展,并逐步應(yīng)用于工業(yè)。

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Ar的作用是維持正常的輝光放電,而氬離子(正離子)也不斷轟擊薄膜表面,產(chǎn)生級聯(lián)碰撞,濺射出油、灰塵等污物分子,清洗薄膜表面。由于氬離子轟擊從靶濺射出來的粒子稱為靶粒子,靶粒子與氬離子轟擊在膜表面可以起到“剝蝕”的作用,使膜表面“變粗”。

首先,帶培養(yǎng)皿的等離子清洗機一般用鹽酸溶液浸泡,使游離堿性物質(zhì)得以去除,并且在使用前必須徹底清洗滅菌,防止基質(zhì)表面的化學(xué)殘留物,抑制細(xì)胞生長。經(jīng)過血漿溶液處理后,不僅能很好地清潔表面、殺菌消毒,還能提高基質(zhì)材料的表面滲透和細(xì)胞粘附壁的能力。。

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