七、研發(fā)成果公司已成功開發(fā)出多款具有自主知識產(chǎn)權(quán)的實驗用和工業(yè)用等離子處理機設(shè)備以及等離子配套設(shè)備,達因值32和32a哪個好擁有專利共66項,其中發(fā)明專利31項,實用新型34項,軟件著作權(quán)1項。并且多款設(shè)備被認定為高新技術(shù)產(chǎn)品。

達因值38是40還是34

進一步增加氯氣的流量,達因值38是40還是34會加速鍺合金的側(cè)向蝕刻形成底部加合的形貌,這也說明高活性化學(xué)蝕刻氣體在蝕刻鍺時更有效,不會損失太多光刻膠,以達到保證側(cè)壁輪廓曲線的效果。另一種以含氟氣體蝕刻為主,主要蝕刻劑為CF4,產(chǎn)物為GeF4,易揮發(fā)。我們可以得到一個非常平滑的圖形地形。加氧可以調(diào)節(jié)鍺對其合金的選擇性比,可高達434。

表 3-3 各種催化劑在等離子體作用下的催化活性 201 催化轉(zhuǎn)化率/% 選擇性/% 收率/% 比值/ MOLC2H6CO2C2H4C2H2C2H4 和 C2H2C2H4 / C2H2H2 / CO 無催化劑 33.822.712.425.412.70.482.3410LA2O3 / Y -AL2OY37.518.52 .832.019.80.652.7410CEO2 / Y-AL2O342.420.620.431.321.80.652.640.1PD / Y-AL2O330.024.646.76.315.97.401.46 注:反應(yīng)條件為催化劑用量0.7ML,達因值38是40還是34放電功率20W(峰值電壓28KV:頻率數(shù)。

由于半導(dǎo)體和光電材料在未來的快速增長,達因值38是40還是34這方面的應(yīng)用需求將越來越大。維護保養(yǎng)等離子清洗機,常言道,假如1個員工想把工作做好,他必須首先磨利他的工具。1個好的工具通??梢允掳牍Ρ丁K€說:不管功夫有多高,他都怕菜刀。不管機器有多好,他都應(yīng)該保養(yǎng)它。所以讓我們分享一些常見的維護保養(yǎng)事項:1.定期檢查真空泵油:每月定期檢查真空泵的油位和油純度,觀察油位窗口。

達因值32和32a哪個好

達因值32和32a哪個好

等離子體粒子會破壞材料表面上的原子或附著在材料表面上的原子。這有利于清潔和蝕刻反應(yīng)。隨著材料和技術(shù)的發(fā)展,嵌入式盲孔結(jié)構(gòu)的完成將越來越小,越來越復(fù)雜。在電鍍填充盲孔時,使用傳統(tǒng)的化學(xué)除渣方法變得越來越困難。等離子清洗法處理對盲孔和小孔有較好的清洗效果,可以充分克服濕法去污的缺陷,通過電鍍可靠地填充盲孔。為了一個好的效果。。通過我們之前的介紹,大家需要熟悉等離子電器在生活中的應(yīng)用。

鍍鎳的原因是由于金和銅間會相互擴散,而鎳層能夠阻止金和銅間的擴散;如果沒有鎳層,金將會在數(shù)小時內(nèi)擴散到銅中去?;瘜W(xué)鍍鎳/浸金的另一個好處是鎳的強度,僅僅5微米厚度的鎳就可以限制高溫下Z方向的膨脹。此外化學(xué)鍍鎳/浸金也可以阻止銅的溶解,這將有益于無鉛組裝?;瘜W(xué)鍍鎳/浸金工藝的一般流程為:酸性清潔→微蝕→預(yù)浸→活化→化學(xué)鍍鎳→化學(xué)浸金,主要有6個化學(xué)槽,涉及到近 種化學(xué)品,因此過程控制比較困難。

隨著汽車對輕量化和環(huán)保的要求,PP改性塑料因其密度低、性價比高、力學(xué)平衡好、耐化學(xué)腐蝕、易加工等突出優(yōu)點而被廣泛應(yīng)用于汽車中。低溫等離子發(fā)生器的表面處理可以增加粘接、印刷和涂層強度。汽車配件中使用的PP(聚丙烯)塑料具有結(jié)構(gòu)規(guī)則、結(jié)晶度高、表面能低、分子鍵缺乏活性官能團、附著力差的特點。

如果您對等離子表面清洗設(shè)備還有其他問題,歡迎隨時聯(lián)系我們(廣東金萊科技有限公司)

達因值38是40還是34

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若放電是在接近于大氣壓的高氣壓條件下進行,達因值38是40還是34那么電子、離子、中性粒子會通過激烈碰撞而充分交換動能,從而使等離子體達到熱平衡狀態(tài)。

因此,達因值38是40還是34本裝置設(shè)備成本不高,清洗過程無需使用昂貴的有機溶劑,使得整體成本低于傳統(tǒng)濕法清洗工藝;七、使用等離子清洗機,要避免清洗液的運輸、儲存、排放等處理措施,因此生產(chǎn)現(xiàn)場易于保持清潔;八、等離子清洗機可以處理的對象不分,它可以處理多種材料,無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等聚合物)都可以用等離子處理。