大顆粒的污垢可能會(huì)附著在腔壁、電極和支架上。腔壁上有一層。2.https://www.jinlaiplasma.com/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00026.pngThehttps://www.jinlaiplasma.com/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00026.pngbottomhttp://d8d.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00026.pngofhttp://d8d.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00026.pngThehttp://d8d.com.cn/asse/jinlai/chanpin/dengliziqingxiji00026.pngcavity(腔體)底部脫落得更嚴(yán)重。電極和托盤架的維護(hù)和翻新:長(zhǎng)期使用后，支架等離子體清潔設(shè)備氧化層會(huì)附著在電極和電極上，碳?xì)浠牧蠒?huì)經(jīng)過等離子體處理。在托盤架和電極中經(jīng)過一段時(shí)間后，一薄層的碳?xì)浠鶜堅(jiān)e累在射頻棒上。這些殘留物和氧化層不能用酒精除去。焊條和支架的維修保養(yǎng)應(yīng)根據(jù)附件的數(shù)量，確保脫膠的穩(wěn)定性。