公司核心團(tuán)隊(duì)從事等離子清洗及表面處理研究10余年。這些產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于集成電路IC封裝、LED封裝、LCD貼片、元器件封裝、厚膜電路封裝、工程塑料表面等。處理等工序。我司生產(chǎn)的全自動(dòng)在線等離子清洗機(jī)與傳統(tǒng)方法相比，集成電路刻蝕工藝產(chǎn)品可靠性和良率顯著提高，同時(shí)具有比進(jìn)口設(shè)備更優(yōu)越的功能和生產(chǎn)能力，性價(jià)比也不錯(cuò)。

越來(lái)越多的不干膠標(biāo)簽被用于保護(hù)。制藥行業(yè)的目標(biāo)是紙箱（安全）。在化學(xué)工業(yè)中更是如此。在等離子預(yù)設(shè)處理期間標(biāo)記小直徑和窄半徑。如果還是開(kāi)始和結(jié)束標(biāo)記的主要區(qū)域也保持其狀態(tài)。此標(biāo)簽不可篡改。等離子清洗機(jī)的原理和電氣設(shè)備的集成很容易。封閉的預(yù)設(shè)處理可以直接進(jìn)行，集成電路刻蝕工藝也可以直接作為標(biāo)簽的一部分進(jìn)行。因此，預(yù)先配置的表面處理是過(guò)程的一部分，并提供產(chǎn)品和客戶（安全）的安全性。

由此，集成電路刻蝕工藝的發(fā)展歷程逐漸形成了以等離子體為加工方式的基礎(chǔ)制造業(yè)。單一過(guò)程或多個(gè)過(guò)程的組合可以賦予等離子體多種用途。例如，在等離子體中，等離子體的化學(xué)合成用于產(chǎn)生新的化學(xué)物質(zhì)，而粒子的聚合作用則用于在表面沉積并形成薄膜。。在半導(dǎo)體器件的制造過(guò)程中，晶圓芯片表面存在各種顆粒、金屬離子、有機(jī)物和殘留顆粒。為了保證集成電路的集成度和器件性能，需要在不損害芯片和其他材料的表面和電性能的情況下，對(duì)芯片表面的這些雜質(zhì)進(jìn)行清洗和去除。

1.半導(dǎo)體集成電路和微電子行業(yè)； 2. LCD LCD/LED封裝、PCB線路板制造； 3.等離子清洗機(jī) 生物醫(yī)用材料表面改性 等離子清洗機(jī)的表面改性可以通過(guò)在表面形成胺基、羰基、羥基、羧基等官能團(tuán)來(lái)提高界面附著力。醫(yī)用導(dǎo)管、輸液袋、透析過(guò)濾器和其他組件、醫(yī)用注射針頭、血液塑料薄膜袋和藥袋的安裝都受益于使用等離子清潔劑激活材料表面的過(guò)程。

集成電路刻蝕工藝

被介紹到我國(guó)的寶島，并介紹到中國(guó)大陸?；仡欉^(guò)去的發(fā)展經(jīng)驗(yàn)，等離子清洗機(jī)在我國(guó)大陸實(shí)際廣泛使用也不過(guò)近10年。說(shuō)到等離子清洗機(jī)品牌，國(guó)內(nèi)市場(chǎng)等離子清洗機(jī)品牌仍以歐美日韓為主，臺(tái)灣品牌也不在少數(shù)。等離子清洗機(jī)在中國(guó)大陸的發(fā)展 生產(chǎn)等離子清洗機(jī)的公司很多，但大多是系統(tǒng)集成的僧侶。由于等離子體理論知識(shí)的匱乏，基礎(chǔ)研究相對(duì)薄弱，缺乏創(chuàng)新性。它是一種技術(shù)，所以它似乎并沒(méi)有特別專注，你實(shí)際上可以稱之為它。品牌里很少。

材料的力學(xué)性能在加工前后沒(méi)有變化。該設(shè)備僅使用氣體來(lái)選擇性地控制溫度、噴嘴位置、寬度和速度等工藝參數(shù)，從而有效地清潔、激活或涂覆這些薄膜材料。等離子表面處理機(jī)技術(shù)預(yù)處理膜的優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)： 具有全“在線”集成功能（不影響原工藝運(yùn)行），節(jié)能降本，保護(hù)環(huán)境，不影響環(huán)境。

這種氧化膜不僅會(huì)干擾半導(dǎo)體制造中的許多步驟，而且它還含有某些金屬雜質(zhì)，這些雜質(zhì)會(huì)在某些條件下移動(dòng)到晶圓上并導(dǎo)致電氣缺陷。該氧化膜的去除通常通過(guò)浸泡在稀氫氟酸中來(lái)完成。將等離子表面處理機(jī)應(yīng)用于等離子晶圓清洗工藝，具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、無(wú)廢液處理、無(wú)環(huán)境污染等優(yōu)點(diǎn)。然而，碳和其他非揮發(fā)性金屬或金屬氧化物雜質(zhì)沒(méi)有被去除。

它在材料表面形成致密的相關(guān)層，并在材料表面引入極性基團(tuán)，以提高PEEK材料的親水性和生物相容性。總之，使用等離子清洗劑處理 PEEK 及其復(fù)合材料是提高這種材料的粘合功能的有用方法。另外，由于材料本身不同，硬度不同，等離子清洗機(jī)對(duì)PEEK材料進(jìn)行表面處理所能達(dá)到的蝕刻效果和粗糙度也不同。因此，要想獲得理想的附著力，就需要調(diào)整親水等離子清洗機(jī)的工藝參數(shù)。。等離子清洗機(jī)是一種新型的材料表面改性方法。

集成電路刻蝕工藝

等離子清洗機(jī)電源的主要電流是13.56KHZ的射頻電源和40KHZ的中頻電源。小型電源的功率為數(shù)百瓦。二是放電氣體的壓力：對(duì)于低壓等離子體，集成電路刻蝕工藝的發(fā)展歷程隨著放電氣體壓力的增加，等離子體密度越高，電子溫度越低。等離子體的清潔效果取決于其密度和等離子體溫度。例如，密度越高，清洗速度越快，等離子溫度越高，清洗效果越好。因此，放電氣體壓力的選擇對(duì)于低壓等離子清洗工藝非常重要。

(4)組合氣質(zhì)量高，集成電路刻蝕工藝可作為柴油的原料，也可用于燃?xì)獍l(fā)動(dòng)機(jī)發(fā)電。與蒸汽動(dòng)力循環(huán)相比，發(fā)電量可提高約。您可以將投資回收期縮短 2 到 3 年，降低 20% 到 32% 或更多。 (5)由于設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，設(shè)備高度低，可降低廠房建設(shè)成本。 3.機(jī)械研究所等離子技術(shù)發(fā)展歷程 1960年代，機(jī)械研究所學(xué)者吳承康開(kāi)發(fā)了等離子炬技術(shù)和成套設(shè)備，研究航天器再入底時(shí)的氣熱燒蝕問(wèn)題。