頻率選擇：在低頻的情況下，附著力大于2級液體受壓與受拉的時間變長；因此空化生成的時間也長，體積也長，而空化閉合時所產生的沖擊力又與空化泡的大小成正比。所以頻率越低，空化越強烈。而我們用于工業(yè)清洗中的頻率一般小于60KHz，用的很多的是在20～40KHz之間。使用20KHz左右的頻率，可以得到相對小數量的空化泡，但有大的空化強度，并且伴有噪音，可用于清洗大部件表面與物件表面結合強度高的工件。

另一種方法即在光纜表面直接噴碼，附著力大路面其成本低、效率高、印字內容及字體大小可隨時調整； 印字清晰美觀，即使出現(xiàn)噴碼錯誤時也易于重新噴印、而且印字不會對光纜線本身性能造成影響；唯(一)的缺點就是粘結性能差，表面噴碼內容容易被磨損掉。

上光工藝中UV上光相對較復雜一些，附著力大于2級出現(xiàn)的問題可能更多一點，目前來說,因UV油與紙張的親和力較差，而造成在糊盒或糊箱時經常會出現(xiàn)開膠的現(xiàn)象，而復膜后,因膜的表面張力及表面能會在不同的條件下有不同的值，大小忽異，再加上不同品牌的膠水所表現(xiàn)出的粘接性能不同，也經常會出現(xiàn)開膠現(xiàn)象，而一旦產品交到客戶手上再開膠，就會有被罰款的可能，這些都令各廠家較煩惱，有的客戶為了盡量減少出現(xiàn)以上情況，不惜加大成本盡量采購進口或國產上等糊盒膠水，但如果對化學品的保管不當，或其他原因，有時還是會出現(xiàn)開膠現(xiàn)象。

相信您對對等離子清洗機的作用、性能、性能等有或多或少的了解，附著力大路面在此先反問一下，您對需要處理的產品形態(tài)特征、耐候溫度、產量要求、均勻度要求、加工目的、生產環(huán)境等方面是否有一個大概的了解，這有助于您選擇等離子清洗機品牌。

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等離子清洗/生產等離子蝕刻機設備，在密封容器中設置兩個電極形成電場，在真空室中抽真空一定程度，隨著氣體越來越薄，分子之間的距離越來越遠，分子或離子，自由的運動距離也越來越大，是一個電場，它們之間的碰撞形成等離子體，等離子體的活性越來越高，它的能量可以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起反應，不同的氣體等離子體有不同的性質，如氧等離子體具有較高的氧化性，可以氧化光刻膠反應產生的氣體，從而達到清洗的效果;刻蝕氣體等離子體具有良好的各向異性，因此可以滿足刻蝕的需要。

等離子處理系統(tǒng)：等離子表面處理機系統(tǒng)，幾乎適用于各種工藝的高效、簡便的“在線”處理工藝對于那些制品的表面特性zhen對后續(xù)工藝是決定性因素的加工過程而言，等離子處理技術是一種普適而又有效的改善表面的手段?！　∵@種常壓等離子處理機技術可以有選擇性地清洗、活化、或者涂裝包括塑料、金屬、玻璃、薄膜或者織物等材料在內的各種素材。

相比之下，等離子設備中干法刻蝕氮化硅對金屬硅化物的選擇性比小于濕法刻蝕。通過控制工藝時間和控制刻蝕量，可以達到控制硅化物損傷的目的。等離子體器件的應力越接近蝕刻，金屬硅化物損傷越嚴重，金屬硅化物的電阻越高。另一方面，由于側墻被完全或部分去除，降低了后續(xù)填充的縱橫比，提高了后續(xù)接觸通過停止層和層間介質層的填充性能。。

等離子刻蝕清洗機ICP刻蝕技術廣泛應用于SiC的刻蝕應用：反應燒結碳化硅(RB-SiC)作為一種新型的陶瓷材料具有高的強度、比剛度、大熱導率和小膨脹系數等特點.隨著光學技術的快速發(fā)展光學系統(tǒng)朝著大口徑、低損耗和輕量化的方向發(fā)展要求光學元件具有高分辨率、廣視場以及高質量的表面形貌。。

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