典型的等離子化學(xué)反應(yīng)包括原子和官能團(tuán)的形成、異構(gòu)化、原子和分子小團(tuán)的去除（去除）、二聚/聚合、化學(xué)濺射、外部蝕刻和外部材料合成。。一、背景隨著日本城市垃圾的不斷增加，附著力好的標(biāo)線漆垃圾圍城的情況越來越突出，對環(huán)境安全構(gòu)成嚴(yán)重威脅。迫切需要開發(fā)新一代的先進(jìn)環(huán)保和節(jié)能技術(shù)。等離子技術(shù)已經(jīng)發(fā)展了 100 多年。由于其高溫和豐富的化學(xué)反應(yīng)粒子，等離子體具有非凡的處理能力，近幾十年來被人們用來炸毀各種難以處理的危險廢物。

與未經(jīng)處理的樣品相比，濺射鍍和電鍍哪個附著力好PL峰強(qiáng)度增加了71%，等離子體硫鈍化樣品的峰波長在退火后恢復(fù)。用硫等離子體鈍化 GaAs 樣品不會造成明顯的雜質(zhì)污染。特別是鈍化效果比較穩(wěn)定，更適合GaAs光電器件的鈍化工藝。使用高頻等離子清洗機(jī)對 GaAs 襯底的表面進(jìn)行硫鈍化處理。射頻等離子體的鈍化效果受基板溫度、濺射功率和劣化溫度的影響。通過優(yōu)化硫等離子體鈍化條件，樣品的PL強(qiáng)度提高了71%，提高了PL穩(wěn)定性。。

在等離子體與材料表面相互作用的過程中，濺射鍍和電鍍哪個附著力好等離子體的基本作用是： 1）與中性氣體分子碰撞高能電子可以打斷化學(xué)鏈，激發(fā)和激活工作氣體，引發(fā)化學(xué)反應(yīng)。 2)等離子粒子被加速到基板并與基板表面碰撞。另一方面，材料表面的原子或基團(tuán)通過分解、濺射、蝕刻等方式與材料表面分離。 另一方面，通過注入、基團(tuán)轉(zhuǎn)化和聚合，可以通過接枝將新的原子或分子引入材料表面，從而導(dǎo)致材料表面的組成、結(jié)構(gòu)和性能發(fā)生變化。

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效果與特點(diǎn)：與傳統(tǒng)的溶劑清洗不同，等離子體是依靠其中所包含高能物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到清洗材料表面的目的，清洗效果顯著，是一種剝離式清洗。其清洗優(yōu)勢主要體現(xiàn)在以下幾個方面：1.清洗后的材料表面基本沒有殘留物，并且可以通過選擇、搭配不同的等離子體清洗類型，產(chǎn)生不同的清洗效果，滿足后續(xù)處理工藝對材料表面特性的多種需求。

以下物質(zhì)以等離子體狀態(tài)存在：快速運(yùn)動的電子、活化的中性原子、分子、原子團(tuán)（自由基）、電離的原子和分子、未反應(yīng)的分子、原子等，該物質(zhì)整體保持電中性。等離子處理器技術(shù)是對等離子特殊特性的一種具體應(yīng)用。等離子體處理系統(tǒng)通過在封閉容器中設(shè)置兩個電極以產(chǎn)生電場并使用真空泵來實現(xiàn)一定程度的真空來產(chǎn)生等離子體。氣體越來越稀薄，分子和離子的分子間距和自由運(yùn)動距離越來越長，在電場的作用下相互碰撞形成等離子體。

借助電子的能量，可以獲得更豐富的離子和激發(fā)的高能中性粒子，也可以通過在中性氣體表面吸附電子而獲得負(fù)離子。由于原子分子物理學(xué)中每種氣體都有自己的能級結(jié)構(gòu)，高能電子可以將氣體激發(fā)到不同的能級，當(dāng)氣體分子和原子從高能級返回到低能級時，會發(fā)射出不同能量的光子。代表不同的能量。。等離子蝕刻機(jī)清潔聚合物負(fù)責(zé)表面重組、清潔和改性。等離子刻蝕機(jī)是一項新技術(shù)，等離子刻蝕機(jī)可以達(dá)到傳統(tǒng)清洗方法無法達(dá)到的效果。

傳統(tǒng)的工藝是采用有機(jī)化學(xué)液體清洗的方法，但隨著PCB板領(lǐng)域的發(fā)展和擴(kuò)大，PCB板變得越來越小。洞變得越來越小,難度系數(shù)有機(jī)化學(xué)藥水做膠洞越來越大,孔越小,咬數(shù)量也很難操作,這可能會導(dǎo)致有機(jī)化學(xué)殘留物和干擾后續(xù)過程。蝕刻等離子體清洗機(jī)是干燥的，不會有有機(jī)化學(xué)殘留物，同時等離子體的擴(kuò)散選擇性強(qiáng)，形成的蝕刻氣相等離子體可以在M類孔上實現(xiàn)合理有效的蝕刻，蝕刻量也可以根據(jù)工藝參數(shù)進(jìn)行調(diào)整，獲得有效的控制。

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