如在上述溫度下進(jìn)行，提高泡沫顆粒附著力則選擇等離子體或微火焰等離子體機(jī)進(jìn)行處理。。小編調(diào)查發(fā)現(xiàn)，火焰等離子體機(jī)表面改性技術(shù)是一種非常先進(jìn)的清洗技術(shù)。簡(jiǎn)單來說，就是等離子體與材料表面相互影響的過程，等離子體中的各種活性粒子沖擊材料表面，從而進(jìn)一步提高材料表面的性能。

并且隨著行業(yè)技術(shù)要求的不斷提高，提高泡沫顆粒附著力等離子清洗技術(shù)在中國(guó)將有更廣闊的發(fā)展空間。隨著汽車工業(yè)的快速發(fā)展,許多外國(guó)制造商把中國(guó)市場(chǎng)目標(biāo),許多零部件制造商也進(jìn)入中國(guó),提出新的技術(shù)要求清潔,可以說,等離子清洗技術(shù)更適合汽車行業(yè)的發(fā)展。醫(yī)療設(shè)備使用前的處理工藝非常精細(xì)，使用氟利昂清洗不僅浪費(fèi)資源而且費(fèi)用非常昂貴，而且使用等離子體表面處理技術(shù)避免了使用化學(xué)物質(zhì)的弊端，而且更適應(yīng)現(xiàn)代醫(yī)學(xué)科技的技術(shù)要求。

在染色前用等離子體蝕刻機(jī)對(duì)織物的耐濕性摩擦色牢度沒有明顯提高，提高泡沫的穩(wěn)定性和附著力在固色劑整理前進(jìn)行等離子腐蝕處理效果顯著。等離子體處理可有效刻蝕纖維的織物表面并引入極性基團(tuán)，增加其表面活性，增強(qiáng)織物表面的結(jié)合牢度，從而提升織物耐摩擦色牢度。。

等離子表面處理機(jī)涉及印刷包裝技術(shù)領(lǐng)域，提高泡沫的穩(wěn)定性和附著力采用低溫等離子表面處理機(jī)器處理涂膠面工藝可以極大的提高粘接強(qiáng)度，降低成本，粘接質(zhì)量穩(wěn)定，處理效果穩(wěn)定均勻，不產(chǎn)生粉塵，無二次污染，環(huán)境潔凈。等離子表面處理設(shè)備是糊盒機(jī)提高產(chǎn)品品質(zhì)的解決方案。

提高泡沫顆粒附著力

等離子清洗機(jī)原理是利用等離子體的特點(diǎn),使用大量的離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等活性粒子,固體樣品表面效果,不僅清晰(除了)表面污染物和雜質(zhì),并產(chǎn)生蝕刻效果,樣品表面是粗糙的,形成許多細(xì)微的凹坑，增加了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性。

處于非熱力學(xué)平衡狀態(tài)下的低溫等離子體中，電子具有較高的能量，可以斷裂材料表面分子的化學(xué)鍵,提高粒子的化學(xué)反應(yīng)活性(大于熱等離子體)，而中性粒子的溫度接近室溫，這些優(yōu)點(diǎn)為熱敏性高分子聚合物表面改性提供了適宜的條件。

阻抗匹配常見于真空等離子清洗機(jī)設(shè)備上，設(shè)備的反應(yīng)腔體、電極和等離子發(fā)生器統(tǒng)稱為負(fù)載，在帶負(fù)載的直流回路中，外電路的負(fù)載電阻與電源內(nèi)阻相等是負(fù)載匹配一個(gè)必要條件。直流回路的這一Z大功率定理在相應(yīng)的交流回路中也存在。下圖為大家列舉了一個(gè)具有負(fù)載阻抗z的高頻回路。

如圖所示，等離子清洗分為電暈等離子清洗、輝光等離子清洗、高頻等離子清洗、介質(zhì)阻擋等離子清洗、微波等離子清洗。和大氣壓等離子弧清洗。其中，低壓等離子清洗一般采用電暈等離子清洗、輝光等離子清洗和高頻等離子清洗，常壓等離子清洗采用等離子清洗、微波等離子清洗和常壓等離子弧清洗。電暈等離子清洗使用曲率半徑小的電極并施加高電壓。由于電極的曲率半徑很小，所以電極附近的電場(chǎng)特別強(qiáng)，容易。

提高泡沫顆粒附著力

　　等離子清洗機(jī)的應(yīng)用，提高泡沫顆粒附著力起源于20世紀(jì)初，隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其應(yīng)用越來越廣，目前已在眾多高科技領(lǐng)域中，居于關(guān)鍵技術(shù)的地位，等離子清洗技術(shù)對(duì)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明影響最大，首推電子資訊工業(yè)，尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。 　　等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)，就沒有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。

非均勻等離子體的自偏壓不同，提高泡沫顆粒附著力超聲等離子體的自偏壓在1000V左右，射頻等離子體的自偏壓在250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，三種等離子體的機(jī)理不同。超聲等離子體攻擊的回波為物理回波，射頻等離子體攻擊的回波為物理回波和化學(xué)回波，微波等離子體攻擊的回波為化學(xué)回波。超聲等離子體清洗對(duì)被清洗表面的影響最大，因此在實(shí)際半導(dǎo)體生產(chǎn)和使用中多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。