等離子體清洗機(jī)是將氣體電離在工件表面產(chǎn)生等離子體，霧化顆粒多少附著力最佳無(wú)論是清洗還是表面活化，為了達(dá)到最佳的處理效果，我們會(huì)選擇不同的工藝氣體。氧氣氧氣是等離子體清洗中常用的活性氣體，屬于物理+化學(xué)處理模式。電離后產(chǎn)生的離子可以物理轟擊表面，形成粗糙的表面。

在最佳工藝條件下，附著力最強(qiáng)的雙面膠氣相清洗工藝參數(shù)為：氣室壓力10-20mL，工藝氣體流量-300sccm，清洗時(shí)間1-5s；氣相清洗工藝的工藝參數(shù)設(shè)定為：氣室壓力為10-20mL托，工藝氣體流量為-300sccm，時(shí)間為1。蒸汽清洗工藝的工藝參數(shù)盡可能設(shè)定為：氣室壓力為15毫托，工藝氣體流量為300，持續(xù)3秒；啟動(dòng)過(guò)程的工作參數(shù)設(shè)置為：腔室壓力15 mTr，上電極功率300 mTr，時(shí)間間隔3秒。。

而且為了方便用戶作業(yè)，附著力最強(qiáng)的雙面膠等離子清洗機(jī)的的功率可調(diào)控，提高設(shè)備的適用率。PL-BM60大氣等離子清洗機(jī)采用低溫等離子技術(shù)，不用擔(dān)心產(chǎn)品在生產(chǎn)過(guò)程中受損，是各種配件，材料進(jìn)行表面處理的最佳處理工藝。

其凈化作用機(jī)理包含兩個(gè)方面：一是在產(chǎn)生等離子體的過(guò)程中，附著力最強(qiáng)的雙面膠高頻放電所產(chǎn)生的瞬間高能足夠打開(kāi)一些有害氣體分子內(nèi)的化學(xué)鍵，使之分解為單質(zhì)原子或無(wú)害分子；二是等離子體中包含大量的高能電子、正負(fù)離子、激發(fā)態(tài)粒子和具有強(qiáng)氧化性的自由基，這些活性粒子和部分臭氣分子碰撞結(jié)合，在電場(chǎng)作用下，使臭氣分子處于激發(fā)態(tài)。

霧化顆粒多少附著力最佳

少量的氧氣被引入等離子體反應(yīng)系統(tǒng)。在強(qiáng)電場(chǎng)的作用下，氧氣產(chǎn)生等離子體，等離子體迅速使光刻膠氧化成揮發(fā)的氣體狀態(tài)，材料被抽走。這種清洗技術(shù)具有操作方便、效率高、表面干凈、無(wú)劃傷、有利于保證產(chǎn)品質(zhì)量，且不含酸、堿、溶劑(機(jī))等優(yōu)點(diǎn)，因此越來(lái)越受到人們的重視。

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剛撓結(jié)合印制線路板微孔去鉆污使用的氣體是CF4和O2。CF4和O2輸入至等離子機(jī)真空腔體后，在等離子發(fā)生器的高頻高壓電場(chǎng)作用下，CF4，O2氣體發(fā)生離解或相互作用生成含有自由基、原子、分子及電子的等離子氣體氛：O2+CF2→O+OF+CO+COF+F+e+ 等離子體中的自由基，正離子與孔壁上高分子有機(jī)材料（C、H、O、N）發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。

等離子清洗/蝕刻機(jī)在密閉容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng)，利用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度產(chǎn)生等離子。它形成等離子體，同時(shí)產(chǎn)生輝光。等離子機(jī) 等離子在電磁場(chǎng)中在空間中運(yùn)動(dòng)，撞擊待處理表面，實(shí)現(xiàn)表面處理、清洗、蝕刻等效果。與使用有機(jī)溶劑的傳統(tǒng)濕法清洗相比，等離子機(jī)具有九大優(yōu)勢(shì)： 1.等離子清洗后，待清洗物體干燥，無(wú)需進(jìn)一步干燥即可送至下道工序。

附著力最強(qiáng)的雙面膠